手表裝飾用氮化鋯薄膜的制備及性能
發(fā)布時(shí)間:2021-01-16 10:34
采用離子鍍與磁控濺射工藝在316L不銹鋼上制備了Cr(Si)/ZrN/Au梯度薄膜。該薄膜呈金黃色,具有優(yōu)良的結(jié)合強(qiáng)度、耐蝕性和耐磨性,是理想的手表用裝飾性膜層。其中金層厚度小于10 nm,用金量極少。
【文章來源】:電鍍與涂飾. 2020,39(14)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
Cr(Si)/ZrN/Au薄膜的表面(左)和截面(右)形貌
在對Cr(Si)/ZrN/Au膜進(jìn)行元素EDS面掃描時(shí),并未發(fā)現(xiàn)Fe、Ni等不銹鋼基體元素,而N、Zr、Cr及Au元素分布均勻一致(見圖3),表明薄膜對基體包覆完全、致密,且Au是均勻分布在ZrN膜層表面,其主要作用為調(diào)色,金層厚度小于10 nm。因EDS面掃描的深度為2~3μm[13],掃不出基體特有的Fe和Ni元素也能證明薄膜厚度大于3μm。Si元素則因含量太少,亦未能檢測到。圖3 Cr(Si)/ZrN/Au薄膜表面的元素分布
Cr(Si)/ZrN/Au薄膜表面的元素分布
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]ZrN系硬質(zhì)膜的研究進(jìn)程與展望[J]. 楊晨,張鈞,孫宇菲,彭立靜. 材料保護(hù). 2019(10)
[2]手表裝飾用類金剛石薄膜的性能研究[J]. 趙可淪,劉海華,彭繼華,繩瑞達(dá),宋鵬濤. 電鍍與涂飾. 2017(08)
[3]磁控濺射離子鍍新型硬黑鉻鍍層的制備與性能[J]. 劉海華,王永寧,吳昌,郭新剛. 電鍍與涂飾. 2014(12)
[4]新型加硬離子鍍金與傳統(tǒng)離子鍍金樣品的性能對比[J]. 宋鵬濤,王永寧,謝逸,孔晶,劉海華. 電鍍與涂飾. 2014(05)
[5]不銹鋼上離子鍍硬鉻層的性能研究[J]. 劉海華,王永寧,羅斌,謝逸. 電鍍與涂飾. 2014(03)
[6]離子鍍玫瑰金鍍層變色機(jī)理的研究[J]. 劉海華,王永寧,謝逸. 電鍍與涂飾. 2014(01)
[7]316不銹鋼表殼離子鍍1N14色鍍金層的性能[J]. 劉海華,王永寧. 電鍍與涂飾. 2013(11)
[8]顏色管理的標(biāo)準(zhǔn)化(Ⅱ)[J]. 王晉海,竇明. 現(xiàn)代涂料與涂裝. 2005(02)
[9]TiN,TiC和Ti(C,N)涂層的性能及影響因素研究[J]. 唐達(dá)培,高慶,江曉禹. 材料保護(hù). 2005(03)
[10]硬質(zhì)薄膜材料的最新發(fā)展及應(yīng)用[J]. 吳大維. 真空. 2003(06)
本文編號:2980670
【文章來源】:電鍍與涂飾. 2020,39(14)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
Cr(Si)/ZrN/Au薄膜的表面(左)和截面(右)形貌
在對Cr(Si)/ZrN/Au膜進(jìn)行元素EDS面掃描時(shí),并未發(fā)現(xiàn)Fe、Ni等不銹鋼基體元素,而N、Zr、Cr及Au元素分布均勻一致(見圖3),表明薄膜對基體包覆完全、致密,且Au是均勻分布在ZrN膜層表面,其主要作用為調(diào)色,金層厚度小于10 nm。因EDS面掃描的深度為2~3μm[13],掃不出基體特有的Fe和Ni元素也能證明薄膜厚度大于3μm。Si元素則因含量太少,亦未能檢測到。圖3 Cr(Si)/ZrN/Au薄膜表面的元素分布
Cr(Si)/ZrN/Au薄膜表面的元素分布
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]ZrN系硬質(zhì)膜的研究進(jìn)程與展望[J]. 楊晨,張鈞,孫宇菲,彭立靜. 材料保護(hù). 2019(10)
[2]手表裝飾用類金剛石薄膜的性能研究[J]. 趙可淪,劉海華,彭繼華,繩瑞達(dá),宋鵬濤. 電鍍與涂飾. 2017(08)
[3]磁控濺射離子鍍新型硬黑鉻鍍層的制備與性能[J]. 劉海華,王永寧,吳昌,郭新剛. 電鍍與涂飾. 2014(12)
[4]新型加硬離子鍍金與傳統(tǒng)離子鍍金樣品的性能對比[J]. 宋鵬濤,王永寧,謝逸,孔晶,劉海華. 電鍍與涂飾. 2014(05)
[5]不銹鋼上離子鍍硬鉻層的性能研究[J]. 劉海華,王永寧,羅斌,謝逸. 電鍍與涂飾. 2014(03)
[6]離子鍍玫瑰金鍍層變色機(jī)理的研究[J]. 劉海華,王永寧,謝逸. 電鍍與涂飾. 2014(01)
[7]316不銹鋼表殼離子鍍1N14色鍍金層的性能[J]. 劉海華,王永寧. 電鍍與涂飾. 2013(11)
[8]顏色管理的標(biāo)準(zhǔn)化(Ⅱ)[J]. 王晉海,竇明. 現(xiàn)代涂料與涂裝. 2005(02)
[9]TiN,TiC和Ti(C,N)涂層的性能及影響因素研究[J]. 唐達(dá)培,高慶,江曉禹. 材料保護(hù). 2005(03)
[10]硬質(zhì)薄膜材料的最新發(fā)展及應(yīng)用[J]. 吳大維. 真空. 2003(06)
本文編號:2980670
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