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《應用光學》科技期刊征稿

　　《應用光學》(雙月刊)創(chuàng)刊于1980年，是由中國兵器工業(yè)集團公司主管、中國兵工學會和中國兵器工業(yè)第二〇五研究所主辦的綜合性技術(shù)類期刊。

　　辦刊宗旨：是促進學科發(fā)展，繁榮學術(shù)交流。

　　基本方針：認真貫徹“雙百”方針以及國家科技出版業(yè)的各項方針政策，實施“科教興國”戰(zhàn)略，重點反映光電子技術(shù)國內(nèi)外的發(fā)展狀況、研究水平、應用情況，密切跟蹤國外高新技術(shù)的研究動態(tài)，推動我國光電子技術(shù)的發(fā)展，打造科技成果轉(zhuǎn)化平臺，為我國國防現(xiàn)代化與經(jīng)濟建設(shè)服務。

　　內(nèi)容涵蓋：光電系統(tǒng)工程、光機電一體化、光電跟蹤測量、光電穩(wěn)瞄、夜視成像、光學設(shè)計、激光應用、紅外應用、光纖應用、薄膜光學、光電器件、特種光學工藝與加工等專業(yè)技術(shù)領(lǐng)域。2006年4月被收錄為“中國科技核心期刊”，2008年12月被收錄為“中文核心期刊”，并被美國《化學文摘》(CA)、《劍橋科學文摘》(CSA)、俄羅斯《文摘雜志》(AJ)、英國《科學文摘》(INSPEC)等國際重要檢索機構(gòu)收錄。

　　讀者對象：從事光電子技術(shù)理論研究、工程設(shè)計與管理、教學、試驗和產(chǎn)品開發(fā)的科技人員、管理人員及大專院校師生。

《應用光學》期刊欄目《應用光學》創(chuàng)刊于1980年，是由中國兵器工業(yè)集團公司主管、中國兵工學會和中國兵器工業(yè)第二〇五研究所主辦的綜合性技術(shù)類期刊

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《應用光學》期刊詳細參數(shù) 期刊級別：核心級 國內(nèi)統(tǒng)一刊號：CN：61-1171/O4 主辦單位：西安應用光學研究所 期刊周期：雙月刊 國際標準刊號：ISSN：1002-2082 主管單位：中國兵器工業(yè)集團公司 上期雜志：廣西物理 下期雜志：光學學報 《應用光學》-投稿須知

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一、《應用光學》論文內(nèi)容及格式

1、論文內(nèi)容應具有先進性、科學性和邏輯性。要求論點新穎，語言精煉，數(shù)據(jù)可靠、論證嚴謹。

2、論文撰寫標準格式參照：

文題：應簡明確切地反映文章的特定內(nèi)容，以不超過20字為宜，一般不用副標題。

作者姓名：張**

摘要：（不超過200字）

關(guān)鍵詞：2～5個

中圖分類號、文獻標識碼、正文、注釋、參考文獻及英文題目和作者拼音名。若有基金資助或課題經(jīng)費資助的論文，請在［作者簡介］后用［基金項目］注明基金項目名稱或課題項目名稱及編號。

3、文章最后要求標注作者簡介:姓名、出生年月、性別、民族、畢業(yè)學校學歷、研究方向、職稱。

二、應用光學投稿方式

投稿采用網(wǎng)絡投稿。來稿請注明作者詳細通訊地址（收件人姓名、單位、住所、郵編、電話、電子信箱等）以便郵寄樣刊。

三、《應用光學》付費須知

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本文編號：209629