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TiO 2 基透明導(dǎo)電薄膜的磁控濺射制備及其光電性能

發(fā)布時間:2022-02-22 08:31
  相比于傳統(tǒng)的透明導(dǎo)電氧化物Sn:In2O3(ITO)材料,摻雜的TiO2具有化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、儲量豐富、環(huán)境友好等特點,在平板顯示、太陽能電池、觸摸屏等光電器件領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用前景。本文利用磁控濺射方法制備了Ta摻雜TiO2(TaTO)薄膜、Nb和Ta共摻雜TiO2(NTTO)薄膜以及NTTO/Cu/NTTO(TCT)多層復(fù)合薄膜,研究了襯底溫度、濺射功率、薄膜厚度等工藝條件對薄膜結(jié)構(gòu)、形貌、組分和光電性能的影響。在此基礎(chǔ)上探討了TiO2基透明導(dǎo)電薄膜的晶體結(jié)構(gòu)和載流子輸運機制對其電學(xué)性能的影響。研究的主要內(nèi)容如下:(1)結(jié)合射頻磁控濺射和真空退火處理在石英襯底上制備了多晶銳鈦礦TaTO薄膜,研究了襯底溫度(室溫?350°C)對薄膜結(jié)構(gòu)和光電性能的影響。結(jié)果表明,Ti和Ta主要以Ti4+和Ta5+的形式存在于薄膜中,大多數(shù)Ta5+離子成功替代了Ti4+離子。薄膜表面具有均... 

【文章來源】:華中科技大學(xué)湖北省211工程院校985工程院校教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:118 頁

【學(xué)位級別】:博士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
1 緒論
    1.1 TCO薄膜的基本特征
    1.2 薄膜制備技術(shù)
    1.3 TCO薄膜的應(yīng)用
    1.4 TiO_2基透明導(dǎo)電薄膜研究進展
    1.5 論文的主要工作
2 薄膜的制備與性能表征
    2.1 薄膜的制備
    2.2 薄膜的結(jié)構(gòu)表征
    2.3 薄膜光電性能表征
    2.4 設(shè)備調(diào)試
    2.5 本章小結(jié)
3 Ta:TiO_2薄膜的制備及其光電性能研究
    3.1 TaTO薄膜的制備
    3.2 TaTO薄膜的結(jié)構(gòu)特征
    3.3 價態(tài)和成分分析
    3.4 薄膜的電學(xué)性能
    3.5 薄膜的光學(xué)性能
    3.6 本章小結(jié)
4 Nb、Ta共摻雜TiO_2薄膜的制備及其光電性能研究
    4.1 NTTO薄膜的制備
    4.2 濺射功率與NTTO薄膜性能的關(guān)聯(lián)
    4.3 薄膜厚度與NTTO薄膜性能的關(guān)聯(lián)
    4.4 本章小節(jié)
5 NTTO/Cu/NTTO多層復(fù)合薄膜的研究
    5.1 NTTO/Cu/NTTO多層薄膜的制備
    5.2 NTTO/Cu/NTTO多層薄膜的結(jié)構(gòu)與元素分析
    5.3 NTTO/Cu/NTTO多層薄膜的電學(xué)性能
    5.4 NTTO/Cu/NTTO多層薄膜的光學(xué)性能
    5.5 本章小結(jié)
6 薄膜結(jié)構(gòu)與載流子輸運性質(zhì)研究
    6.1 結(jié)構(gòu)與電學(xué)性能的關(guān)系
    6.2 載流子濃度的影響機理
    6.3 載流子的輸運機制研究
    6.4 本章小結(jié)
7 總結(jié)與展望
致謝
參考文獻
附錄1 攻讀博士學(xué)位期間發(fā)表論文目錄


【參考文獻】:
期刊論文
[1]磁控濺射Nb摻雜TiO2薄膜的研究[J]. 辛榮生,蘇雷生,林鈺,姚志強.  真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報. 2018(06)
[2]教學(xué)型橢偏儀測量各向異性單軸晶體光學(xué)參數(shù)的方法研究[J]. 張鎖歆,錢建強,郝維昌,秦雨浩,姚星群.  物理與工程. 2018(03)
[3]利用橢偏儀研究氫氣退火處理對ZnO-Ga薄膜光學(xué)性能的影響(英文)[J]. 楊嬌,高美珍.  紅外與毫米波學(xué)報. 2016(01)
[4]Optimization of TiO2/Cu/TiO2 multilayers as a transparent composite electrode deposited by electron-beam evaporation at room temperature[J]. 孫洪濤,王小平,寇志起,王麗軍,王金燁,孫義清.  Chinese Physics B. 2015(04)
[5]Nb高摻雜量對銳鈦礦TiO2導(dǎo)電和光學(xué)性能影響[J]. 侯清玉,呂致遠,趙春旺.  物理學(xué)報. 2015(01)
[6]H2氣氛退火處理對Nb摻雜TiO2薄膜光電性能的影響[J]. 張彬,王偉麗,牛巧利,鄒賢劭,董軍,章勇.  物理學(xué)報. 2014(06)
[7]鍶摻雜納米TiO2薄膜的制備及性能研究[J]. 丁士文,高甲,丁宇.  化學(xué)學(xué)報. 2011(24)
[8]絨面ZnO:Al(ZAO)透明導(dǎo)電薄膜的制備[J]. 付恩剛,方玲,莊大明,張弓.  太陽能學(xué)報. 2003(05)
[9]透明導(dǎo)電薄膜最佳摻雜含量的理論計算[J]. 范志新.  半導(dǎo)體學(xué)報. 2002(06)
[10]透明導(dǎo)電氧化物薄膜研究現(xiàn)狀與產(chǎn)業(yè)化進展[J]. 趙謝群.  電子元件與材料. 2000(01)

博士論文
[1]新型Ga摻雜ZnO基透明導(dǎo)電薄膜的制備與研究[D]. 張哲浩.浙江大學(xué) 2015
[2]ZnO/Si異質(zhì)結(jié)構(gòu)晶界行為及其載流子輸運機制研究[D]. 劉秉策.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2011



本文編號:3639083

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