浸沒光刻投影物鏡光學(xué)設(shè)計與像差補償研究
發(fā)布時間:2021-08-04 11:44
自從1947年第一個晶體管發(fā)明以來,以集成電路為代表的半導(dǎo)體技術(shù)的高速發(fā)展推動了人類社會的數(shù)字化和信息化,為我們帶來了高效舒適的現(xiàn)代化生活。集成電路制造產(chǎn)業(yè)的硬件基礎(chǔ)是各類不同用途的專用集成電路制造裝備,而其中核心裝備是投影光刻機,投影光刻機中的核心部件又是投影物鏡,其研發(fā)與制造難度是超精密光學(xué)的頂峰。目前主流的投影物鏡顯著特點是高NA(1.35)、大視場(26mm×5.5mm)和極高的成像質(zhì)量要求(包括標(biāo)量像差和偏振像差)。這對投影物鏡的設(shè)計、加工制造和像質(zhì)補償提出了極高的要求。本論文基于以上背景開展了研究工作,主要研究內(nèi)容概括如下:首先對國內(nèi)外的研究現(xiàn)狀進行了調(diào)研,包括投影物鏡的發(fā)展歷程和像差補償方法。在這個基礎(chǔ)上,論文的第一部分開展了浸沒投影物鏡的優(yōu)化設(shè)計工作。浸沒光刻機采用了偏振光照明,需要考慮投影物鏡偏振像差對成像的影響,故本文首先對投影物鏡的標(biāo)量成像理論進行了拓展,建立了偏振像差理論體系。針對標(biāo)量像差要求,分析了浸沒投影物鏡的像差校正難點和方法,在合理的系統(tǒng)復(fù)雜度條件下,為了校正場曲,必須采用折反式結(jié)構(gòu)。在分析了不同的折反式結(jié)構(gòu)的特點后,選擇了兩片反射鏡的同軸折反式結(jié)構(gòu),完...
【文章來源】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所)吉林省
【文章頁數(shù)】:174 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
第一臺通用計算機ENIAC
雖然摩爾定律最初是對集成電路發(fā)展趨勢的歸納總結(jié),但自其提出后,隨著其預(yù)言不斷的獲得驗證,它反過來開始牽引整個集成電路行業(yè)的發(fā)展,引導(dǎo)著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長期規(guī)劃和目標(biāo)設(shè)定。目前半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展基本上遵循著摩爾定律,下面均以電腦用集成電路中的中央微處理器(Centrol Processing Unit,CPU)為代表來介紹集成電路的發(fā)展。從1971年至2011年,單個CPU上晶體管數(shù)量與摩爾定律的關(guān)系如圖1.2所示[10]。Intel公司的CPU發(fā)展歷程如圖1.3所示[11]。圖1.3英特爾中央處理器芯片發(fā)展歷史
圖1.2微處理器上晶體管數(shù)與摩爾定律從圖1.2和圖1.3中可以看出,單個微處理器上集成的晶體管數(shù)量增長規(guī)律和摩爾定律所預(yù)測的基本一致。具體來看,1971年Intel開發(fā)出第一代也是世界上第一個微處理器芯片4004,采用的是10μm工藝,包含了4個芯片,2300個晶體管。到2012年,在Intel采用22nm工藝的通用中央微處理器上集成的晶體管數(shù)量已經(jīng)達到了14億個,增長超60萬倍。
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Useful way to compensate for intrinsic birefringence caused by calcium fluoride in optical lithography systems[J]. 周澤龍,尚紅波,隋永新,楊懷江. Chinese Optics Letters. 2018(03)
[2]一種基于線性模型的光刻投影物鏡偏振像差補償方法[J]. 涂遠瑩,王向朝. 光學(xué)學(xué)報. 2013(06)
[3]偏振對光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響[J]. 龐武斌,岑兆豐,李曉彤,錢煒,尚紅波,許偉才. 物理學(xué)報. 2012(23)
[4]精確標(biāo)定光彈調(diào)制器的新方法[J]. 曾愛軍,王向朝,李代林,黃立華,董作人. 光學(xué)學(xué)報. 2005(06)
[5]光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)[J]. 郭立萍,黃惠杰,王向朝. 激光雜志. 2005(01)
博士論文
[1]投影光刻物鏡偏振像差研究[D]. 周澤龍.中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2018
[2]高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡像質(zhì)補償策略與偏振像差研究[D]. 徐象如.中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所 2017
[3]高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計[D]. 徐明飛.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2015
[4]共軸極紫外投影光刻物鏡設(shè)計研究[D]. 劉菲.北京理工大學(xué) 2014
[5]投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計與像質(zhì)補償[D]. 許偉才.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2011
[6]極紫外投影光刻中若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 金春水.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2003
本文編號:3321638
【文章來源】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所)吉林省
【文章頁數(shù)】:174 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
第一臺通用計算機ENIAC
雖然摩爾定律最初是對集成電路發(fā)展趨勢的歸納總結(jié),但自其提出后,隨著其預(yù)言不斷的獲得驗證,它反過來開始牽引整個集成電路行業(yè)的發(fā)展,引導(dǎo)著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長期規(guī)劃和目標(biāo)設(shè)定。目前半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展基本上遵循著摩爾定律,下面均以電腦用集成電路中的中央微處理器(Centrol Processing Unit,CPU)為代表來介紹集成電路的發(fā)展。從1971年至2011年,單個CPU上晶體管數(shù)量與摩爾定律的關(guān)系如圖1.2所示[10]。Intel公司的CPU發(fā)展歷程如圖1.3所示[11]。圖1.3英特爾中央處理器芯片發(fā)展歷史
圖1.2微處理器上晶體管數(shù)與摩爾定律從圖1.2和圖1.3中可以看出,單個微處理器上集成的晶體管數(shù)量增長規(guī)律和摩爾定律所預(yù)測的基本一致。具體來看,1971年Intel開發(fā)出第一代也是世界上第一個微處理器芯片4004,采用的是10μm工藝,包含了4個芯片,2300個晶體管。到2012年,在Intel采用22nm工藝的通用中央微處理器上集成的晶體管數(shù)量已經(jīng)達到了14億個,增長超60萬倍。
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Useful way to compensate for intrinsic birefringence caused by calcium fluoride in optical lithography systems[J]. 周澤龍,尚紅波,隋永新,楊懷江. Chinese Optics Letters. 2018(03)
[2]一種基于線性模型的光刻投影物鏡偏振像差補償方法[J]. 涂遠瑩,王向朝. 光學(xué)學(xué)報. 2013(06)
[3]偏振對光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響[J]. 龐武斌,岑兆豐,李曉彤,錢煒,尚紅波,許偉才. 物理學(xué)報. 2012(23)
[4]精確標(biāo)定光彈調(diào)制器的新方法[J]. 曾愛軍,王向朝,李代林,黃立華,董作人. 光學(xué)學(xué)報. 2005(06)
[5]光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)[J]. 郭立萍,黃惠杰,王向朝. 激光雜志. 2005(01)
博士論文
[1]投影光刻物鏡偏振像差研究[D]. 周澤龍.中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2018
[2]高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡像質(zhì)補償策略與偏振像差研究[D]. 徐象如.中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所 2017
[3]高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計[D]. 徐明飛.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2015
[4]共軸極紫外投影光刻物鏡設(shè)計研究[D]. 劉菲.北京理工大學(xué) 2014
[5]投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計與像質(zhì)補償[D]. 許偉才.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2011
[6]極紫外投影光刻中若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 金春水.中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所) 2003
本文編號:3321638
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