基于噴墨打印制備QLED器件的關(guān)鍵技術(shù)研究
發(fā)布時(shí)間:2020-12-28 10:32
量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)是一種新興的無機(jī)納米晶體自發(fā)光技術(shù),由于材料的納米尺寸效應(yīng),量子點(diǎn)(QDs)不僅可以產(chǎn)生R、G、B三基色且光譜半峰寬窄至28 nm,可實(shí)現(xiàn)很高的色純度。隨著噴墨打印制備有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板產(chǎn)業(yè)技術(shù)的突破,采用相同制程的QLED顯示技術(shù)正在成為開發(fā)下一代大尺寸新型顯示面板技術(shù)關(guān)注的焦點(diǎn)。但是目前對于噴墨打印制備QLED器件的研究依然處于起步階段,打印過程中還存在著層間溶劑侵蝕問題、墨水在膜層上的鋪展問題、空穴傳輸材料體系不完善及層間界面問題,上述因素嚴(yán)重影響了噴墨打印QLED器件的性能。此外,要實(shí)現(xiàn)全溶液法制備QLED器件還需要進(jìn)行頂電極的溶液法制備以替代真空蒸鍍電極,擺脫QLED器件制備對高真空環(huán)境的依賴。為了解決上述的噴墨打印QLED器件中所存在的問題,本論文從三個(gè)方面進(jìn)行了認(rèn)真細(xì)致的研究,重點(diǎn)完成了以下三方面創(chuàng)新性工作:1.本論文將已在產(chǎn)業(yè)中應(yīng)用的具有高空穴遷移率的聚合物空穴傳輸材料poly(9,9-dioctylfluorene-alt-N-(4-sec-Butyl phenyl)-diphenylamine(TFB)與本團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)合成的交...
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:109 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?(a)第一個(gè)QLED器件采用的兩種器件結(jié)構(gòu)及(b)電致發(fā)光光譜A??在量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)優(yōu)化方面,最初的CdSe量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)還是采用的CdSe純核的??
子來替代油酸酯長鏈配體,以此來調(diào)節(jié)優(yōu)化PbS?(硫化鉛)量子點(diǎn)之間的距離,??從而優(yōu)化了電荷注入/傳輸和激子輻射復(fù)合之間的平衡。Shen等人114]用1-辛硫醇??替換了藍(lán)光量子點(diǎn)中的油酸配體,由于降低了點(diǎn)對點(diǎn)距離,較短的1-辛硫醇配體??改善了從聚合物空穴傳輸層到量子點(diǎn)層的空穴注入以及電子在量子點(diǎn)薄膜內(nèi)的??傳輸。這些優(yōu)點(diǎn)導(dǎo)致藍(lán)光QLED器件具有 ̄2.6?V的低啟亮電壓和最大12.2%的??外量子效率(EQE),與使用油酸配體的QLED器件相比;最大外量子效率增加??了約70%,如圖1.2所示。??(a)???e?(b)8l?14??|;:;?_^^::|?|4.?/^\-2!??-1〇'?:1〇°"?2-???i10.?_—_Jn??2?3?4?5?10°?101?102?1?03?1?0^??V?(V)?L?(cd/m2)??圖1.2?Shen等人采用油酸配體和1-辛硫醇配體的QLED器件的(a)J-V-L曲線以及(b)EQE-??L-CE曲線丨14丨。??在QLED器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化方面,最初的器件結(jié)構(gòu)中量子點(diǎn)層不僅作為發(fā)光層,??3??
D器件的器件能級結(jié)構(gòu)示意圖岡。??2008年,Stouwdam等人[21】發(fā)現(xiàn)使用ZnO納米晶體可以作為QLED器件的??電子傳輸層,同時(shí)使用有機(jī)材料p〇ly(9-vinylcarbazole)?(PVK)作為空穴傳輸層,??這樣發(fā)光層與電荷傳輸層均可以使用溶液法進(jìn)行制備。ZnO納米晶體分散在異??丙醇中,這樣在旋涂ZnO時(shí)就不會(huì)對下層的量子點(diǎn)層造成破壞。盡管制備得到??的QLED器件的效率很低,甚至不及不使用ZnO的器件,但是ZnO的引入使得??器件的啟亮電壓降低了?2?V左右(如圖1.5所示),這說明ZnO與QD之間的電??子注入勢壘很校于是,從那時(shí)起,研宄者們開始采用這種有機(jī)材料與無機(jī)材料??混雜的QLED器件結(jié)構(gòu)。??(a)?1?〇〇?—I—I—'—I—?—I—>——)—■ ̄—I—1—3?(b)? ̄1?'?I?'?i?'?t?1?I?1??P??015?.臣?'??E?—〇—NoZnO??互? ̄20?nm?ZnO??二?no?ZnO?./?Z?一?—t*—?32?nm?ZnO??嘗?1°::以:認(rèn),/?,?'??i?#?/?I?/?—叫??§?.?S?/?LU?.?f??|?1?/?!???0.05-?j??i?/?/?:?|??°-1i?'?2???4?"'e???/?1?10?'?12?」0.00Li???U?U?0?20?40?60?80?100??Bbs?⑵?Current?Density?(mA/cm2)??圖1.5?Stoimdam等人制備的使用ZnO以及不使用ZnO的QLED器件的(a)L-V曲線和??(b)CE-J曲線1川。??5??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Full-color quantum dots active matrix display fabricated by ink-jet printing[J]. Congbiao Jiang,Lan Mu,Jianhua Zou,Zhiwei He,Zhenji Zhong,Lei Wang,Miao Xu,Jian Wang,Junbiao Peng,Yong Cao. Science China(Chemistry). 2017(10)
本文編號:2943602
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:109 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?(a)第一個(gè)QLED器件采用的兩種器件結(jié)構(gòu)及(b)電致發(fā)光光譜A??在量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)優(yōu)化方面,最初的CdSe量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)還是采用的CdSe純核的??
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D器件的器件能級結(jié)構(gòu)示意圖岡。??2008年,Stouwdam等人[21】發(fā)現(xiàn)使用ZnO納米晶體可以作為QLED器件的??電子傳輸層,同時(shí)使用有機(jī)材料p〇ly(9-vinylcarbazole)?(PVK)作為空穴傳輸層,??這樣發(fā)光層與電荷傳輸層均可以使用溶液法進(jìn)行制備。ZnO納米晶體分散在異??丙醇中,這樣在旋涂ZnO時(shí)就不會(huì)對下層的量子點(diǎn)層造成破壞。盡管制備得到??的QLED器件的效率很低,甚至不及不使用ZnO的器件,但是ZnO的引入使得??器件的啟亮電壓降低了?2?V左右(如圖1.5所示),這說明ZnO與QD之間的電??子注入勢壘很校于是,從那時(shí)起,研宄者們開始采用這種有機(jī)材料與無機(jī)材料??混雜的QLED器件結(jié)構(gòu)。??(a)?1?〇〇?—I—I—'—I—?—I—>——)—■ ̄—I—1—3?(b)? ̄1?'?I?'?i?'?t?1?I?1??P??015?.臣?'??E?—〇—NoZnO??互? ̄20?nm?ZnO??二?no?ZnO?./?Z?一?—t*—?32?nm?ZnO??嘗?1°::以:認(rèn),/?,?'??i?#?/?I?/?—叫??§?.?S?/?LU?.?f??|?1?/?!???0.05-?j??i?/?/?:?|??°-1i?'?2???4?"'e???/?1?10?'?12?」0.00Li???U?U?0?20?40?60?80?100??Bbs?⑵?Current?Density?(mA/cm2)??圖1.5?Stoimdam等人制備的使用ZnO以及不使用ZnO的QLED器件的(a)L-V曲線和??(b)CE-J曲線1川。??5??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Full-color quantum dots active matrix display fabricated by ink-jet printing[J]. Congbiao Jiang,Lan Mu,Jianhua Zou,Zhiwei He,Zhenji Zhong,Lei Wang,Miao Xu,Jian Wang,Junbiao Peng,Yong Cao. Science China(Chemistry). 2017(10)
本文編號:2943602
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