高性能正電子湮沒譜儀的研制及AlN薄膜的缺陷與磁性研究
【學(xué)位單位】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位年份】:2020
【中圖分類】:O572.322
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
1.1 正電子的基本性質(zhì)
1.1.1 正電子的預(yù)測與發(fā)現(xiàn)
1.1.2 正電子譜學(xué)的發(fā)展
1.1.3 正電子的基本物理屬性
1.2 正電子湮沒譜學(xué)技術(shù)簡介
1.2.1 正電子湮沒譜學(xué)基本原理
1.2.2 正電子湮沒譜學(xué)基本實驗技術(shù)
1.2.3 慢正電子束
1.2.4 正電子湮沒譜學(xué)的優(yōu)勢
1.3 總結(jié)與本文的研究重點
第2章 高效率正電子壽命-動量關(guān)聯(lián)譜儀的研制
2.1 AMOC研究進展
+γΔEγ符合型AMOC譜儀'> 2.1.1 β+γΔEγ符合型AMOC譜儀
γ符合型AMOC譜儀'> 2.1.2 γγΔEγ符合型AMOC譜儀
2.2 AMOC譜儀的探測器預(yù)研
2.2.1 HPGe探測器
2.2.2 閃爍探測器
2.3 AMOC譜儀的設(shè)計
2.3.1 Geant4簡介
2.3.2 探測器的幾何配置比較
2.3.3 閃爍體的尺寸與品質(zhì)因子關(guān)系的模擬
2.4 AMOC譜儀的硬件組成
2.4.1 電子學(xué)與邏輯判選
2.4.2 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
2.5 AMOC譜儀的調(diào)試
2.5.1 壽命譜部分的調(diào)試
2.5.2 能譜部分的調(diào)試
2.5.3 AMOC譜的重建及譜儀性能
2.6 本章小結(jié)
第3章 高時間分辨正電子湮沒壽命譜儀的研制
3.1 選題背景
3.2 實驗裝置與分析方法
3.2.1 實驗裝置
3.2.2 分析方法
3.3 實驗結(jié)果與討論
3.3.1 符合時間分辨
3.3.2 正電子湮沒壽命譜
3.4 本章小結(jié)
第4章 C離子注入的AlN薄膜缺陷與磁性研究
4.1 選題背景
4.2 實驗與計算方法
4.2.1 樣品制備與處理
4.2.2 SRIM模擬
4.2.3 樣品的表征
4.2.4 第一性原理計算
4.3 結(jié)果與討論
4.3.1 XRD實驗
4.3.2 拉曼光譜實驗
4.3.3 XPS實驗
4.3.4 透射光譜實驗
4.3.5 多普勒展寬譜實驗
4.3.6 磁性實驗
4.3.7 第一性原理計算
4.4 本章小結(jié)
第5章 總結(jié)與展望
5.1 論文總結(jié)
5.1.1 高效率AMOC譜儀的研制
5.1.2 高時間分辨PAL譜儀的研制
5.1.3 C離子注入的AlN薄膜缺陷與磁性研究
5.2 論文創(chuàng)新點
5.3 展望
參考文獻
附錄A 數(shù)據(jù)采集程序源代碼
致謝
在讀期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與取得的研究成果
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本文編號:2867023
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