脈沖激光沉積法制備硫系玻璃薄膜的結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)研究
【圖文】:
在基片表面生長成膜,即絕熱膨脹后的等離子體在基片表面迅速冷卻沉積成膜。通常采用的脈沖激光有:XeCI、戶JF、K淦F等準(zhǔn)分子激光,其波長分別為308、193、248lun[96]。圖2一1為脈沖激光沉積法的裝置簡圖。薄膜等離子體羽輝、、·、,··‘,··;,·;,,備,;..口靶材圖2一1脈沖激光沉積法的裝置簡圖Fig.2一 1DevieediagramofPulsedlaserdePosition
武漢理工大學(xué)博士學(xué)位論文如圖2一2所示,F(xiàn)ocsa等人采用高速CCD裝置拍攝出PLD沉積過程中羽輝的變化圖象【921。該圖像清楚地展示了脈沖激光燒蝕靶材產(chǎn)生的羽輝,從IOns到600ns的變化情形。張端明等人研究了脈沖激光燒蝕靶材的動力學(xué),提出了等離子體演化的動力學(xué)方程[97]。目前PLD技術(shù)的工藝過程仍有很多未知的領(lǐng)域,仍然是科學(xué)研究的前沿課題之一。圖2一 2PLD沉積過程中羽輝的變化圖象192】Fig.2一 2plumeimagesduringthepulsed一 aserdePositionI92]在用PLD法制備薄膜時,其工藝操作中具有以下幾個特點四]:(l)激光束會經(jīng)過凸透鏡,聚射到靶材表面對其進(jìn)行燒蝕。一般采用soolnrn焦距的石英凸透鏡,可以將脈沖激光的束斑聚焦到大約為1~2
【學(xué)位授予單位】:武漢理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2010
【分類號】:TQ171.1
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2533014
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