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脫合金法制備納米多孔銅的研究

發(fā)布時間:2018-07-10 15:18

  本文選題:納米多孔銅 + 薄膜 ; 參考:《濟(jì)南大學(xué)》2011年碩士論文


【摘要】:冶金學(xué)認(rèn)為脫合金是在腐蝕環(huán)境中選擇性地除去合金中較活潑組元的一種腐蝕現(xiàn)象。但是它也可以被用來制備具有三維結(jié)構(gòu)材料、薄膜材料和一維納米線等低密度的納米多孔金屬材料。納米多孔金屬開拓了金屬材料新的應(yīng)用,將材料的多孔形態(tài)與物理、化學(xué)、機(jī)械性能結(jié)合起來,超越材料固有功能,發(fā)揮多孔材料的輕質(zhì)、高強(qiáng)韌、強(qiáng)吸附、隔熱、散熱、優(yōu)異的吸能性能等一系列特性,具有結(jié)構(gòu)和功能雙重作用,被廣泛用于催化、化學(xué)、生物傳感、燃料電池電極、汽車、海洋采油、航空航天等領(lǐng)域。因此材料的微觀結(jié)構(gòu)設(shè)計,對多孔金屬材料的工程應(yīng)用和設(shè)計開發(fā)具有深遠(yuǎn)的影響意義。 本論文采用兩種方法制備了前軀體母合金,一是磁控濺射法,二是單輥旋淬法。研究內(nèi)容和結(jié)論如下: (1)使用磁控濺射法在玻璃和單晶硅兩種不同的基底上沉積銅鋅合金薄膜。通過改變?nèi)齻工藝參數(shù)--濺射電流、濺射壓強(qiáng)以及濺射時間,來研究這些參數(shù)對薄膜的組元分布、厚度、表面形貌、表面粗糙度、電阻率變化及穩(wěn)定性的影響,獲得最佳工藝參數(shù)。 (2)以Cu62Zn38合金薄膜為前軀體母合金,在H_2SO_4溶液中脫合金化處理后制備多孔純銅薄膜,采用X射線衍射分析、掃描電鏡、EDS能譜分析等手段研究合金的結(jié)構(gòu)及以其為母合金的脫合金化后所得多孔銅的多孔結(jié)構(gòu)和斷口形貌,研究了酸溶液浸泡處理對多孔銅的多孔結(jié)構(gòu)的影響。實驗結(jié)果表明:磁控濺射沉積薄膜出現(xiàn)非晶特征;在稀H_2SO_4溶液中進(jìn)行脫合金化腐蝕后,兩相中的Zn元素被腐蝕掉,制備出連續(xù)納米多孔結(jié)構(gòu)的銅薄膜材料。Cu62Zn38合金在2 mol/L H_2SO_4溶液和7 mol/L H_2SO_4溶液中是非均勻腐蝕,在2 mol/L H_2SO_4溶液中形成的納米孔的密度較小,而且有些區(qū)域尚未成孔;薄膜在7 mol/L H_2SO_4溶液中腐蝕時,薄膜整體從基底剝落并發(fā)生卷曲,表明脫鋅層引起的內(nèi)應(yīng)力超過表面附著力使薄膜發(fā)生斷裂且卷曲,層狀卷曲的薄膜不能充分腐蝕,難以形成均勻的多孔結(jié)構(gòu)薄膜;在5 mol/L H_2SO_4溶液中為均勻腐蝕,形成銅骨架和孔結(jié)構(gòu),部分孔呈現(xiàn)蜂窩狀,其骨架尺寸51~228nm,平均尺寸約為92.7nm,平均孔徑尺寸約為94nm,形成一個內(nèi)部連續(xù)三維的網(wǎng)絡(luò)狀結(jié)構(gòu)。 (3)以Zn10Cu90和Zn20Cu80合金為前軀體母合金,分別在鹽酸和硫酸中脫合金處理,制備塊狀納米多孔銅,采用X射線衍射分析、掃描電鏡、EDS能譜分析等手段研究合金的多孔結(jié)構(gòu)和斷口形貌。實驗結(jié)果表明:Zn10Cu90和Zn20Cu80合金帶由主要由Cu0.64Zn0.36(α相)和CuZn電子化合物(β相)兩相組成,Cu0.64Zn0.36和CuZn電子化合物被完全除去,形成了大孔結(jié)構(gòu)的納米多孔結(jié)構(gòu)。塊狀納米多孔銅是帶系和孔道組成的雙連續(xù)、開孔結(jié)構(gòu),高孔隙率使材料具有高強(qiáng)度、低密度的納米多孔結(jié)構(gòu)。另外,細(xì)小的棒狀塊體和切片也可使用脫合金方法制備出納米多孔材料。 通過對兩種制備納米多孔銅工藝的對比分析,探討了脫合金法制備多孔材料的機(jī)制,對于今后制備和研究納米多孔材料具有一定的借鑒作用。
[Abstract]:The nano porous metal is used for preparing nano porous metal material with low density , such as three - dimensional structure material , thin film material and one - dimensional nano wire .

In this paper , the precursor master alloy is prepared by two methods , one is magnetron sputtering method , two is single roller spinning quenching method . The research contents and conclusions are as follows :

( 1 ) Using magnetron sputtering method to deposit copper - zinc alloy thin films on two different substrates of glass and monocrystalline silicon . By changing the parameters of three parameters - sputtering current , sputtering pressure and sputtering time , the effects of these parameters on the distribution , thickness , surface morphology , surface roughness , resistivity change and stability of the films are studied .

( 2 ) The porous pure copper thin films were prepared by de - alloying in H _ 2SO _ 4 solution with Cu62Zn38 alloy thin film as precursor master alloy . The results showed that the thin films formed in the solution of 2 mol / L H2SO4 and 7 mol / L H _ 2SO _ 4 were non - uniform . The results showed that the films could not be fully corroded in 2 mol / L H _ 2SO _ 4 solution .

( 3 ) The porous structure and fracture morphology of the alloy were investigated by using Zn10Cu90 and Zn20Cu80 alloys as precursor master alloys . The results show that the Zn10Cu90 and Zn20Cu80 alloy bands are composed of two phases : Cu0.64Zn0 . 36 ( 偽 phase ) and CuZn electronic compound ( 尾 phase ) . The experimental results show that the Cu0.64Zn0 . 36 and CuZn electronic compounds are completely removed to form the nano porous structure with large pore structure .

Through the comparative analysis of the two methods for preparing the nano porous copper , the mechanism of preparing the porous material by the dealloying method is discussed , which can be used for reference for the preparation and research of the nano porous material in the future .
【學(xué)位授予單位】:濟(jì)南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2011
【分類號】:TB383.1

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本文編號:2113781

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