本文選題：鎵鈦共摻雜氧化鋅(GZO　切入點(diǎn)：Ti)薄膜　出處：《光電子·激光》2017年11期

【摘要】：采用射頻(RF)磁控濺射工藝于玻璃襯底沉積了鎵鈦共摻雜氧化鋅(GZO:Ti)半導(dǎo)體薄膜,研究了沉積溫度對(duì)薄膜微觀結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的影響。通過X射線衍射儀(XRD)和紫外分光光度計(jì)對(duì)其晶體結(jié)構(gòu)和透射光譜特性進(jìn)行表征,同時(shí)利用光譜擬合法獲取了薄膜的光學(xué)常數(shù)。研究結(jié)果表明,所有薄膜均具備六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)和c軸擇優(yōu)取向特性,沉積溫度對(duì)薄膜的微結(jié)構(gòu)參數(shù)、光學(xué)常數(shù)和光學(xué)帶隙具有明顯調(diào)控作用,當(dāng)沉積溫度為653K時(shí),GZO:Ti薄膜的晶粒尺寸最大(82.12nm)、位錯(cuò)密度最低(1.48×10~(-4) nm~(-2))、微應(yīng)變最小(0.001 4)、可見光區(qū)平均透射率最高(82.06%)及光學(xué)帶隙值最大(3.57eV)。
[Abstract]:Gallium and titanium co-doped ZnO GZO / Ti semiconductor thin films were deposited on glass substrates by RF magnetron sputtering. The effect of deposition temperature on the microstructure and optical properties of the films was investigated.The crystal structure and transmission spectrum of the films were characterized by X-ray diffractometer (XRD) and ultraviolet spectrophotometer. The optical constants of the films were obtained by spectral fitting method.The results show that all the films have hexagonal wurtzite structure and c-axis preferred orientation, and the deposition temperature has a significant effect on the microstructural parameters, optical constants and optical band gaps of the films.When the deposition temperature is 653K, the maximum grain size is 82.12nm / m, the lowest dislocation density is 1.48 脳 10 ~ (-4) nm ~ (-2), the minimum strain is 0.001 ~ (4), the highest average transmittance in visible region is 82.06), and the maximum optical band gap is 3.57 EV ~ (-1).
【作者單位】： 湖北民族學(xué)院理學(xué)院;湖北民族學(xué)院信息工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(11504101,11364018)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：O484

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 R.K.T.Hsieh,歐陽皂;具有微結(jié)構(gòu)的材料的多極力學(xué)[J];應(yīng)用科學(xué)學(xué)報(bào);1984年04期

2 ;第六屆國際超晶格、微結(jié)構(gòu)、微器件會(huì)議預(yù)告[J];物理;1992年04期

3 ;薄膜光學(xué) 光學(xué)薄膜參數(shù)測(cè)試[J];中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)文摘;2006年01期

4 ;薄膜光學(xué) 光學(xué)薄膜參數(shù)測(cè)試[J];中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)文摘;2006年04期

5 ;薄膜光學(xué) 其他[J];中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)文摘;2006年05期

6 黃云;黃水花;楊開勇;曲天良;吳素勇;;“薄膜光學(xué)”課程建設(shè)探索[J];電子世界;2012年23期

7 陳淑芬;李雪;;《薄膜光學(xué)》課程的教學(xué)研究與探索[J];科技視界;2013年25期

8 李滋蘭;;介紹一本國外薄膜光學(xué)新教材[J];教材通訊;1990年05期

9 江月松,李翠玲,盧維強(qiáng);一種簡易的薄膜光學(xué)特性測(cè)量裝置[J];光學(xué)技術(shù);2002年01期

10 ;薄膜光學(xué)[J];中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)文摘;2004年02期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 馬孜;肖琦;姚德武;;薄膜光學(xué)監(jiān)控信號(hào)的數(shù)字信號(hào)處理[A];2004年光學(xué)儀器研討會(huì)論文集[C];2004年

2 張為權(quán);;雙軸晶體薄膜光學(xué)隧道效應(yīng)[A];'99十一省（市）光學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];1999年

3 陳凱;崔明啟;鄭雷;趙屹東;;遺傳算法在軟X射線薄膜反射率多參數(shù)擬合中的應(yīng)用[A];第13屆全國計(jì)算機(jī)、網(wǎng)絡(luò)在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2007年

4 魏啟珂;肖波;葉龍強(qiáng);江波;;Sol-Gel法制備納米二氧化鈦功能性薄膜[A];第七屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（第5分冊(cè)）[C];2010年

5 范蕓;唐武;翁小龍;鄧龍江;;氧分量對(duì)WO_x薄膜紅外光譜性能的影響[A];2008全國功能材料科技與產(chǎn)業(yè)高層論壇論文集[C];2008年

6 周紅;隋成華;陳乃波;許曉軍;魏高堯;蔡萍根;;在藍(lán)寶石光纖端面上生長ZnO薄膜的方法及光學(xué)性能分析[A];光子科技創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)化——長三角光子科技創(chuàng)新論壇暨2006年安徽博士科技論壇論文集[C];2006年

7 邢曉;王文軍;張棟;劉云龍;高學(xué)喜;張丙元;;生長溫度與氧壓對(duì)LMBE制備納米TiO_2薄膜的影響[A];中國光學(xué)學(xué)會(huì)2011年學(xué)術(shù)大會(huì)摘要集[C];2011年

8 梁愛鳳;楊化偉;王宇鋼;;磁控濺射與離子鍍技術(shù)在高分子核孔膜中的沉積形貌研究[A];2008年全國荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

9 楊種田;楊兵;周霖;劉傳勝;葉明生;付德君;;多弧-中頻磁控濺射沉積Ti-Si-N結(jié)構(gòu)與性能[A];2008年全國荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

10 王軍生;童洪輝;趙嘉學(xué);韓大凱;戴彬;;影響磁控濺射均勻性的因素[A];第十三屆全國等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議論文集[C];2007年

相關(guān)博士學(xué)位論文 前10條

1 馬蕾;Si基納米薄膜光伏材料的制備、結(jié)構(gòu)表征與光電特性[D];河北大學(xué);2014年

2 王朝勇;減反射和自清潔功能薄膜的制備與表征[D];鄭州大學(xué);2016年

3 曹輝義;銅銦鋁硒薄膜的制備及其性質(zhì)研究[D];華東師范大學(xué);2017年

4 褚憲薇;NiO基薄膜的磁控濺射法制備及其光電器件的研究[D];吉林大學(xué);2017年

5 劉立華;硼碳氮薄膜的制備及性質(zhì)研究[D];吉林大學(xué);2006年

6 楊偉鋒;鋁摻雜氧化鋅透明薄膜之制備及其在氮化鎵基發(fā)光二極管之應(yīng)用[D];廈門大學(xué);2008年

7 王君;射頻磁控濺射法沉積氮化銅納米薄膜及PLZT薄膜[D];蘭州大學(xué);2006年

8 蘭偉;p型透明導(dǎo)電氧化物CuAlO_2薄膜的制備與性能研究[D];蘭州大學(xué);2007年

9 薛書文;溶膠凝膠法制備ZnO基薄膜及離子注入研究[D];電子科技大學(xué);2007年

10 鐘聲;ZnO薄膜的生長特性及摻雜研究[D];中國科學(xué)技術(shù)大學(xué);2008年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條

1 胡嘉玲;微結(jié)構(gòu)對(duì)聲傳播特性的影響研究[D];蘇州大學(xué);2015年

2 徐東;紫外納秒激光直寫銅膜微結(jié)構(gòu)的研究[D];天津大學(xué);2014年

3 王新巧;LPCVD技術(shù)沉積的ZnO薄膜及其特性研究[D];河北大學(xué);2015年

4 熊玉寶;超親水TiO_2透明薄膜的制備及其光催化性能研究[D];南京信息工程大學(xué);2015年

5 張帆;溫度相關(guān)的二氧化鈦及鋯鈦酸鉛薄膜的橢圓偏振光譜研究[D];復(fù)旦大學(xué);2014年

6 張清清;能量過濾磁控濺射技術(shù)ITO薄膜的制備及性能優(yōu)化[D];鄭州大學(xué);2015年

7 侯振太;氮化鋅薄膜的制備研究[D];山東大學(xué);2015年

8 崔衛(wèi)華;ZnO薄膜摻雜及其性能研究[D];浙江大學(xué);2015年

9 陳仁剛;磁控濺射制備氮化物薄膜及其表征[D];北京工業(yè)大學(xué);2015年

10 馮禹;N摻雜對(duì)磁控濺射制備ZnO薄膜光致發(fā)光特性影響研究[D];長春理工大學(xué);2014年

，

本文編號(hào)：1697932