本文關(guān)鍵詞：化學(xué)合成熒光量子點(diǎn)在指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用

  更多相關(guān)文章： 量子點(diǎn) 熒光 指紋 顯現(xiàn)

【摘要】：簡要闡述了量子點(diǎn)的光學(xué)特性、制備方法及其在指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用。重點(diǎn)介紹了Ⅱ～Ⅵ族的CdS基、CdTe基、CdSe基、ZnSe基量子點(diǎn)和Ⅲ～Ⅴ族的InP量子點(diǎn)的化學(xué)合成、修飾及其在指紋顯現(xiàn)中的研究進(jìn)展,最后介紹了第Ⅳ族C、Si量子點(diǎn)的研究現(xiàn)狀,并對其在指紋顯現(xiàn)中的潛在應(yīng)用作了展望。
【作者單位】： 北京化工大學(xué)理學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 量子點(diǎn) 熒光 指紋 顯現(xiàn)
【基金】：“十一五”國家科技支撐計(jì)劃(2007BAK26B08)資助項(xiàng)目
【分類號】：D918.2
【正文快照】： 量子點(diǎn)(QDs)又稱半導(dǎo)體納米晶(Semiconductor nanocrystal),是指粒徑接近或小于激子玻爾半徑的納米材料[1]。對半導(dǎo)體納米材料而言,當(dāng)粒徑接近激子波爾半徑時(shí),材料表現(xiàn)出明顯的小尺寸效應(yīng)和量子尺寸效應(yīng),在光、電和催化等領(lǐng)域表現(xiàn)出許多新的特性。在光致發(fā)光方面,與傳統(tǒng)的熒

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本文編號：1107270