為改善太陽選擇性吸收涂層基材鍍膜前的清潔狀態(tài)及增加基材表面的活性,本文研發(fā)了一種利用電磁場壓縮原理而具有匯聚作用的新型等離子源,使太陽選擇性吸收涂層基材在鍍膜前,被含有氧成分的高能等離子電子束轟擊,使基材表面碳?xì)浠衔镛D(zhuǎn)化為易揮發(fā)的二氧化碳,再由真空泵抽走,起到清潔基材及增加表面活性的功能。

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【部分圖文】：

圖2磁場壓縮實(shí)驗(yàn)示意圖

SOLARENERGY11/201861的束縛作用，配合電磁場壓縮作用，制造出一種陰極等離子源，并且該陰極等離子源的工作壓強(qiáng)可在10-4～10-3Torr(1Torr=133.322Pa)之間，其放電電壓在100V左右。2實(shí)驗(yàn)過程為使太陽選擇性吸收涂層獲得更好的膜層結(jié)合力，本文主....

圖5陰極等離子源裝置示意圖ERGY11/201862

，有向兩邊散射趨勢，該趨勢可理解為輝光線路上獲得了密度更高的電子，而放電電壓開始逐漸下降。由此可見，在不改變真空環(huán)境的條件下，放電條件得到改善。當(dāng)L1在50～60mm時(shí)，此時(shí)被壓縮進(jìn)入磁場范圍內(nèi)的電子增多，原有在陰極附近的輝光完全消失，出現(xiàn)兩條明顯向外發(fā)射的輝光，且輝光較為穩(wěn)定。....

圖6陰極等離子源輝光效果圖由表3可知，在該實(shí)驗(yàn)中，當(dāng)L1<30mm時(shí)，由于屏蔽罩板已經(jīng)切入陰極磁感線范圍，阻斷了電子沿磁感線方向的螺旋運(yùn)動(dòng)軌跡

SEM形貌進(jìn)行分析。未做真空陰極等離子源電子束轟擊清潔的太陽選擇性吸收涂層的鋁質(zhì)基材及其SEM形貌圖如圖7所示，其表面存在大量的大顆粒物質(zhì)，切面結(jié)構(gòu)明顯粗糙。采用真空陰極等離子源電子束轟擊清潔的太陽選擇性吸收涂層的鋁質(zhì)基材及其SEM形貌圖如圖8所示，其表面大顆粒物質(zhì)明顯減少，切面....

圖7未經(jīng)過真空陰極等離子源轟擊清潔的基材及其SEM圖a.未經(jīng)過真空陰極等離子源b.SEM圖轟擊清潔的基材3放電最為容易，可獲得較大放電電流，同時(shí)獲得高匯聚的高能等離子源電子束

本文編號(hào)：3890372