本論文以提高Ni-AlN太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層的高溫穩(wěn)定性為初衷，研究了Ni-AlN光譜選擇性吸收涂層高溫條件下的性能退化機(jī)制，探討了W摻雜量對(duì)Ni1-xWx紅外反射層結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、Ni1-xWx/Ni-AlN（II）/Ni-AlN（I）/AlN光譜選擇性吸收涂層高溫穩(wěn)定性以及Ni1-x’Wx’/Ni1-xWx-AlN（II）/Ni1-xWx-AlN（I）/AlN光譜選擇性吸收涂層高溫穩(wěn)定性的影響，得出以下結(jié)論：（1）Ni-AlN光譜選擇性吸收涂層的最佳膜層結(jié)構(gòu)為：Ni（200nm）/Ni0.46-AlN（60nm）/Ni0.28-AlN（30nm）/AlN（35nm），涂層吸收率α=0.906，發(fā)射率ε=0.14（100℃），光譜選擇性良好。（2）高溫條件下Ni-AlN光譜選擇性吸收涂層的退化主導(dǎo)機(jī)制是：Ni紅外反射發(fā)生回復(fù)再結(jié)晶，晶粒取向發(fā)生顯著變化，表面變得不平整，光譜反射率降低，從而導(dǎo)致Ni/Ni-AlN（II）/Ni-AlN（I）/AlN光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能的退化；金屬紅外反射層結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性對(duì)Ni-AlN光譜選擇性吸收涂層的高溫穩(wěn)定性具有重要影響，選擇結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性良好的Mo... 

【文章來源】：中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(北京)北京市 211工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：86 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

理想太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層反射率曲線（A.Sakurai，2014）

）等（李金花，2005）。但是，單一的本征吸收型光譜涂層足實(shí)際應(yīng)用。波型型光譜涂選擇性吸收涂層是根據(jù)光的干涉原理而設(shè)計(jì)出來。為了達(dá)到對(duì)太陽(yáng)光譜波段高吸收和紅外波段高反射的目紅外反射特性，在金屬基底上制備若干層具有特定光學(xué)常/金屬/電介質(zhì)（簡(jiǎn)稱 D-A-D）堆垛薄膜，如圖 1-2 所示。使層界面的反射光束干涉相消，從而在太陽(yáng)輻射峰值附近產(chǎn)而紅外光譜可幾乎無吸收地穿透膜層，然后借助金屬紅外常通過結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計(jì)使該涂層在可見-近紅外波段的反射光值點(diǎn)，這兩個(gè)反射率極小值導(dǎo)致了涂層對(duì)太陽(yáng)光譜在可見史月艷，2009）。

圖 1-4 典型金屬陶瓷復(fù)合型光譜選擇性吸收涂層四層結(jié)構(gòu)示意圖結(jié)構(gòu)的金屬陶瓷復(fù)合型光譜涂層借鑒了干涉濾波型光譜選擇性構(gòu)，采用雙金屬陶瓷復(fù)合膜作為吸收層，相對(duì)于多層漸變結(jié)構(gòu)質(zhì)的層數(shù)，降低了膜層中金屬粒子的含量以及膜層總厚度，可以況下得到滿意的光譜選擇性吸收效果（Q. C. Zhang，1996）。M. Farooq，2002）運(yùn)用等效媒質(zhì)理論，借助計(jì)算機(jī)編程模擬優(yōu)化究多層漸變涂層和典型四層結(jié)構(gòu)光譜涂層發(fā)現(xiàn)：所有多層漸變能都可以采用典型四層結(jié)構(gòu)光譜涂層來等效，四層結(jié)構(gòu)光譜涂構(gòu)，同時(shí)還通過制備 W-Al2O3，V-Al2O3，Co-SiO2，Cr-SiO2 光證實(shí)了以上結(jié)論。四層膜系結(jié)構(gòu)與多層漸變結(jié)構(gòu)光譜涂層相比，但前者更適用于高溫情況，因?yàn)榍罢吒髂又薪饘倏偤科S著溫度升高，發(fā)射率比后者增加更為緩慢（楊曉繼，1997）。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號(hào)：3088071