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脈沖磁控濺射MoS 2 -Ti涂層常溫及高溫真空摩擦磨損性能

發(fā)布時(shí)間:2023-11-04 16:20
  利用脈沖磁控濺射法,以鋁青銅合金(C63200)和硅片為基底,制作不同Ti含量的MoS2-Ti復(fù)合涂層。通過(guò)XRD、SEM、EDS、光學(xué)顯微鏡、多環(huán)境摩擦試驗(yàn)機(jī)等表征了涂層的結(jié)構(gòu)成分和摩擦性能。結(jié)果表明:隨Ti含量的增加,涂層致密度提升,S、Mo原子比上升。Ti的摻入使涂層由高度結(jié)晶態(tài)向非晶態(tài)轉(zhuǎn)變。Ti含量增加,涂層摩擦磨損性能先上升再下降,常溫真空下含3%Ti的涂層擁有穩(wěn)定和低至0.015的摩擦系數(shù),23%Ti的涂層失去潤(rùn)滑性。溫度升高到400℃,涂層摩擦系數(shù)由0.015~0.04上升至0.07~0.1,含13%Ti的涂層高溫真空下在800s后潤(rùn)滑失效。磨痕形貌顯示,含3%Ti的涂層磨痕最窄,溫度升高寬度增加不大,含13%Ti的涂層磨損嚴(yán)重,400℃真空環(huán)境下很快磨穿,純MoS2和13%Ti涂層摩擦?xí)r發(fā)現(xiàn)大量磨粒和破碎磨屑。

【文章頁(yè)數(shù)】:7 頁(yè)

【文章目錄】:
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)方法和材料
    2.1 涂層制備
    2.2 結(jié)構(gòu)表征和性能測(cè)試
3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果和討論
    3.1 形貌及成分
    3.2 組織結(jié)構(gòu)
    3.3 常溫真空摩擦性能
    3.4 高溫真空摩擦性能
    3.5 摩擦后磨痕及形貌
4 結(jié)論



本文編號(hào):3860651

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