重離子核微孔膜是（以下簡稱核微孔膜）是應(yīng)用核技術(shù)生產(chǎn)的一種徑跡蝕刻膜（Track-etched membranes，TEM），屬于篩孔型薄膜精濾介質(zhì)。核微孔膜上具有核徑跡所形成的微米級的微孔，這些微孔是由核設(shè)施進行加工所形成的。一般而言，多采用反應(yīng)堆或者加速器輻照而成。核微孔膜的制備由幾個獨立的步驟組成：重離子的輻照加工、敏化及化學(xué)蝕刻。本論文研制的核微孔膜是在中國原子能科學(xué)研究院下屬核物理研究所的HI-13靜電串列加速器平臺上制備的。由于在核微孔膜的生產(chǎn)過程中，膜的輻照是其生產(chǎn)工藝的關(guān)鍵，輻照工序決定了核孔的密度分布狀況，直接影響核微孔膜的質(zhì)量。因此，準確掌握核微孔膜真實的被輻照強度及其輻照后核孔密度分布的均勻性具有現(xiàn)實意義，不僅能夠提高核微孔膜的生產(chǎn)質(zhì)量，同時能讓工作人員及時了解輻照情況，減輕工作量，減少了時間的浪費，節(jié)約了輻照成本。 本文詳細地介紹了針對HI-13靜電串列加速器L70°輻照設(shè)備所開發(fā)的重離子輻照核微孔膜監(jiān)視系統(tǒng)的研制思路、制作過程以及測試結(jié)果。創(chuàng)新性地采取了膜后測量方式，當重離子束流穿過薄膜后打到法拉第筒探測器上，會產(chǎn)生正比于束流強度的電流信號，將該電流信號經(jīng)過I...

【文章頁數(shù)】：58 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
目錄
摘要
Abstract
1 緒論
    1.1 研究背景、研究目的和意義
        1.1.1 研究背景
        1.1.2 研究意義和目的
    1.2 重離子核微孔膜簡介
        1.2.1 核微孔膜的起源與制備
        1.2.2 核微孔膜的特點
        1.2.3 核微孔膜的應(yīng)用
    1.3 研究現(xiàn)狀及國內(nèi)外研究方法
        1.3.1 項目現(xiàn)狀
        1.3.2 測量重離子束流強度的方法
        1.3.3 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)的開發(fā)平臺
    1.4 研究方案和創(chuàng)新點
        1.4.1 研究方案
        1.4.2 創(chuàng)新點
2 理論基礎(chǔ)
    2.1 方案選擇的理論基礎(chǔ)
        2.1.1 HI-13 靜電串列加速器出束原理
        2.1.2 核微孔膜輻照專用束流線裝置概況
        2.1.3 靜電的產(chǎn)生
        2.1.4 剩余能量計算
        2.1.5 法拉第筒探測器的工作原理
        2.1.6 次級電子的產(chǎn)生及應(yīng)用
    2.2 系統(tǒng)設(shè)計框圖
3 制作部分
    3.1 束流測量裝置的設(shè)計及制作
        3.1.1 輻照靶室概況
        3.1.2 束流測量裝置設(shè)計
        3.1.3 加壓柵極的設(shè)計
        3.1.4 裝置的制作
    3.2 I-V 轉(zhuǎn)換電子學(xué)線路
        3.2.1 電路設(shè)計原理
        3.2.2 電路設(shè)計的基本思路
        3.2.3 芯片的選擇
        3.2.4 Multisim 仿真模擬
        3.2.5 電路實際效果
    3.3 基于 Labwindows/cvi 的虛擬儀器的設(shè)計
        3.3.1 硬件部分--PCI-8620 采集卡性能參數(shù)及安裝
        3.3.2 PCI-8620 數(shù)據(jù)采集卡與 I-V 轉(zhuǎn)化器硬件接口及其驅(qū)動接口函數(shù)
        3.3.3 軟件部分-Labwindows/cvi 的選取及模擬信號的采集實現(xiàn)過程
    3.4 系統(tǒng)測量結(jié)果與分析
4 總結(jié)與展望
    4.1 總結(jié)
    4.2 展望
參考文獻
附錄 主要程序代碼
成果目錄
致謝



本文編號：3754307