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倍頻組件內(nèi)顆粒污染物隔離與沖掃的仿真與實(shí)驗(yàn)研究

發(fā)布時(shí)間:2021-08-02 05:43
  倍頻組件肩負(fù)高能激光頻率轉(zhuǎn)換,是打靶核心部件,其內(nèi)光學(xué)元件能否保持高潔凈度關(guān)系激光的高效能頻率轉(zhuǎn)換和光學(xué)元件的激光損傷閾值,是制約ICF(Inertial Confinement Fusion)發(fā)展的瓶頸問題。激光通過倍頻組件時(shí),其內(nèi)的光學(xué)元件會(huì)迸濺出氣溶膠顆粒,這些顆粒污染物一旦再次接觸到光學(xué)元件,激光再次通過表面附著顆粒污染物的光學(xué)元件時(shí)將會(huì)發(fā)生嚴(yán)重的二次損傷,極大地降低了光學(xué)元件的使用壽命和裝置的負(fù)載能力。并且倍頻組件內(nèi)光學(xué)元件較多(45塊),光學(xué)元件間會(huì)產(chǎn)生互相影響,且裝置內(nèi)結(jié)構(gòu)緊湊、機(jī)構(gòu)復(fù)雜,加重了裝置的污染程度,所以保證倍頻組件內(nèi)的潔凈度對(duì)于終端光學(xué)組件穩(wěn)定、持續(xù)運(yùn)行具有重要意義。本文以倍頻組件內(nèi)的顆粒污染物為研究對(duì)象,采用兩相流方法研究了高能激光部件內(nèi)顆粒污染物在低速層流風(fēng)和高速風(fēng)刀流體耦合作用下的顆粒污染物沖掃和光學(xué)元件污染防護(hù)過程。在不影響光學(xué)元件正常工作的前提下,實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件表面與氣溶膠顆粒相隔離并實(shí)現(xiàn)其快速置換,保證倍頻組件內(nèi)的潔凈度,提高裝置的壽命與負(fù)載能力。首先對(duì)原型倍頻內(nèi)光學(xué)元件表面的顆粒污染物的空間演化狀態(tài)進(jìn)行了研究。利用顆粒軌道模... 

【文章來源】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】:85 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

倍頻組件內(nèi)顆粒污染物隔離與沖掃的仿真與實(shí)驗(yàn)研究


各國ICF裝置總體排布圖

示意圖,光學(xué)組件,終端,示意圖


圖 1-2 終端光學(xué)組件(Final Optics Assembly,F(xiàn)OA)示意圖[15]通過終端光學(xué)組件中的光學(xué)元件時(shí),會(huì)不可避免地對(duì)光學(xué)且損傷點(diǎn)會(huì)產(chǎn)生等離子體和熔融的材料,迸濺出的顆粒污。氣溶膠顆粒從損傷點(diǎn)向裝置內(nèi)散射,其直徑為微米級(jí)[20度。盡管終端光學(xué)組件在加工、運(yùn)輸、裝配的過程中都保

損傷形貌,損傷形貌,光學(xué)元件,污漬


圖 1-3 1064nm 與 355nm 對(duì)應(yīng)的后表面的損傷形貌圖[30]件中的光學(xué)元件以及固定它的金屬材料長期暴露在會(huì)產(chǎn)生損傷[32],主要損傷現(xiàn)象有:1、由于橫向產(chǎn)生布械損傷;2、光學(xué)元件并不是理想的,其中不可避免的所產(chǎn)生的劃痕、污漬、及亞表面損傷,這些因素會(huì)導(dǎo)

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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博士論文
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碩士論文
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本文編號(hào):3317007

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