合金氧化物在熔鹽高溫應(yīng)用環(huán)境中的行為
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類(lèi)號(hào)】:TL426
【圖文】:
高溫熔鹽裝置用結(jié)構(gòu)材料熔鹽的分解溫度較高并且熱穩(wěn)定性良好,因此在先進(jìn)高溫?zé)釕?yīng)用中常被導(dǎo)流體(HTFs)和熱能儲(chǔ)存(TES)介質(zhì)。先進(jìn)的太陽(yáng)能集熱(CSP)在考慮采用熔鹽作為傳熱介質(zhì)[1],這項(xiàng)技術(shù)要求熱傳導(dǎo)流體的工作溫度550-800oC。如熔融的 NaCl、KCl、MgCl2或 ZnCl2的混合物就可用作 CS器里的熱傳導(dǎo)流體,而且這些鹽也是可靠的儲(chǔ)熱材料[2]。在核能領(lǐng)域中是下一代核電廠與核能制氫廠之間熱量傳輸回路的候選冷卻劑之一[3]。熔鹽高溫應(yīng)用環(huán)境中的結(jié)構(gòu)材料不僅要與高溫熔融鹽接觸,還要在高溫空氣接觸,所以其耐高溫熔鹽腐蝕性能和耐高溫氧化性能都非常重要。氯鹽體系的 Ellingham 圖表示出了一些金屬氯化物的吉布斯形成自由能化的情況,可以看到堿金屬氯化物和堿土金屬氯化物在熱力學(xué)上都比過(guò)氯化物更穩(wěn)定[4],所以這些堿金屬或堿土金屬氯鹽不會(huì)被 Ni、Cr、Fe 族金屬元素還原。
收精細(xì)結(jié)構(gòu)(μ-XANES)分析。BL15U1 線站出的同步輻射束經(jīng)過(guò)雙晶單色器單色化后,X 射線的能量在 4.9-20.5keV 范圍內(nèi)自由可調(diào)并且能夠?qū)崿F(xiàn)微聚焦,該X 射線束照在這些氧化樣品上的最終光斑尺寸約為 2μm(水平) 5μm(垂直)。如圖 2.1 所示,被測(cè)樣品安裝在一個(gè) x、y、z 三個(gè)方向都能移動(dòng)的臺(tái)子上,移動(dòng)精度為 100 nm,實(shí)現(xiàn)樣品微區(qū)掃描過(guò)程中進(jìn)行衍射和吸收。樣品臺(tái)與入射光束成 4.6°角,這樣后電離室能夠接收到足夠的信號(hào)。Ni、W 和 Cr 三種元素的特征X 射線熒光光譜是由產(chǎn)自美國(guó)艾普的單個(gè) Vortex-90EXSi 漂移探測(cè)器(SDD)檢測(cè)的,為了減少康普頓散射,這個(gè)探頭放置在與射入 X 射線成 90°的位置上。由直徑為 165 mm 的 2D 平面探測(cè)器(Mar-165 CCD)測(cè)得 2D 的 XRD 圖案,根據(jù)CeO2樣品的標(biāo)定,平面探測(cè)器與樣品臺(tái)相距 183.84 mm。在對(duì) W 進(jìn)行 XANE實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,光子能量被調(diào)節(jié)在 11.50keV~11.65keV 范圍內(nèi),并通過(guò) SDD 和電離腔室分別記錄 W Lβ在 9.672 keV 處反射的熒光強(qiáng)度及入射光強(qiáng)度 I0來(lái)得到 W的 L2邊近邊吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)光譜。
在氬氣保護(hù)氣氛的手套箱中將 4 份 NaCl-KCl-MgCl2(33.3-21.3-45.4mo各 34 g 分別放入 4 個(gè) 38 mm× 61 mm× 3 mm(內(nèi)徑、內(nèi)高、壁厚)Al2,再將 4 個(gè)合金樣品(Ni-6Cr、 Ni-1Al-6Cr 、Ni-4Al-6Cr、 Ni-6Al-6C個(gè) Al2O3坩堝中的鹽上并扣上 Al2O3坩堝蓋子。將裝有鹽和樣品的 4 個(gè)放入大的 108 mm× 152 mm× 8 mm(內(nèi)徑、內(nèi)高、壁厚)不銹鋼坩堝中不銹鋼坩堝中放置一個(gè)空的 Al2O3坩堝和一個(gè)只盛有鹽沒(méi)有樣品的 Al2以固定其他 Al2O3坩堝,確保在移動(dòng)不銹鋼坩堝的過(guò)程中不會(huì)有 Al2O,同時(shí)做個(gè)宏觀的對(duì)照,檢驗(yàn)熔鹽與 Al2O3坩堝之間是否會(huì)產(chǎn)生明顯的,還有空的 Al2O3坩堝在本次實(shí)驗(yàn)的腐蝕氣氛下會(huì)不會(huì)損壞。放置好3坩堝后,在手套箱內(nèi)焊接不銹鋼坩堝和坩堝蓋使不銹鋼坩堝密封。之好的不銹鋼坩堝從手套箱中取出小心轉(zhuǎn)移進(jìn)直排爐中,設(shè)定好升溫程序 h 內(nèi)升溫到 800oC,并保持 300 h,然后將坩堝取出后使其隨空氣冷卻熱爐。放置在直排爐中的坩堝及其內(nèi)部情況見(jiàn)圖 2.2。
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