可調(diào)中央電極式三維溝槽電極硅探測器電學(xué)性能及i-t曲線研究
【圖文】:
圖 1.1 直拉法制備單晶硅示意圖論源于 J.Czochralski[3],最早是用于研究金屬的結(jié)晶速度 1950 年,,該方法被 Teal 和 Little 兩人[4]改善,使其在單硅生長機(jī)的簡圖為圖 1.1,由 3 三部分組成:
區(qū)熔法示意圖
【學(xué)位授予單位】:湘潭大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TL814
【相似文獻(xiàn)】
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本文編號:2642661
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