電離層中緯槽是亞極光帶電離層的一個(gè)標(biāo)志性結(jié)構(gòu),它不僅與當(dāng)?shù)仉婋x層發(fā)生的各種物理過(guò)程有關(guān),還受來(lái)自磁層的對(duì)流電場(chǎng)和地磁擾動(dòng)等因素的影響。研究電離層中緯槽的形態(tài)學(xué)特征和動(dòng)力學(xué)變化及其控制因素,對(duì)認(rèn)識(shí)磁層-電離層耦合機(jī)制有重要科學(xué)意義,對(duì)中高緯電離層建模和預(yù)測(cè)也有潛在的應(yīng)用價(jià)值。本文利用CHAMP衛(wèi)星近十年（2000-2009年）的電子密度觀測(cè)數(shù)據(jù),統(tǒng)計(jì)分析了地理經(jīng)度、季節(jié)、太陽(yáng)活動(dòng)以及行星際磁場(chǎng)和太陽(yáng)風(fēng)電場(chǎng)對(duì)中緯槽出現(xiàn)率的影響；通過(guò)典型事件分析和統(tǒng)計(jì)分析,研究了中緯槽的動(dòng)力學(xué)特征以及地磁擾動(dòng)和太陽(yáng)風(fēng)電場(chǎng)等因素對(duì)中緯槽運(yùn)動(dòng)的控制作用,并嘗試建立了中緯槽動(dòng)力學(xué)經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ�。此�?利用CRACE衛(wèi)星信標(biāo)TEC觀測(cè)數(shù)據(jù),開(kāi)展了頂部電離層和較低等離子體層天基CT重建實(shí)驗(yàn),根據(jù)重建結(jié)果,分析了2005年5月超強(qiáng)磁暴期間中緯槽位置、寬度、深度等形態(tài)學(xué)特征隨高度的變化特征及磁暴的效應(yīng)。論文的主要研究工作和結(jié)果歸納如下：1.利用CHAMP電子密度觀測(cè)數(shù)據(jù),對(duì)中緯槽出現(xiàn)率進(jìn)行了統(tǒng)計(jì)分析,結(jié)果表明：（1）南北半球中緯槽出現(xiàn)率隨磁地方時(shí)的分布形態(tài)基本一致,出現(xiàn)率最大值均發(fā)生在午夜后1-2小時(shí)內(nèi),但北半球出現(xiàn)率整體上高... 

【文章來(lái)源】：武漢大學(xué)湖北省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：124 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：博士

【部分圖文】：

中性大氣層各層溫度隨高度分布示意圖（Kelley,1989)

中偉電離層典型電子密度隨高度分布剖面（Brekke,1997)

太陽(yáng)活動(dòng)平靜期，白天大氣成分隨高度分布Uelley,1989)


本文編號(hào)：3086783