發(fā)布時間：2024-03-04 22:37

　　黃瓜(Cucumis sativus L.)屬于葫蘆科一年生蔓生或攀援草本植物,具有高冷敏感性。中國各地普遍栽培,在保護地冬春栽培中常遭遇低溫傷害,影響其生長發(fā)育、產(chǎn)量和品質(zhì),低溫導致細胞脫水,光合機構、植物膜系統(tǒng)損傷,抑制葉綠體發(fā)育,造成活性氧大量積累、代謝紊亂和生長破壞等,因此研究增強黃瓜耐低溫能力具有重要意義。一氧化氮(nitric oxide,NO)不僅是一種生物活性物質(zhì),同時也是一種信號分子,它參與許多生長過程和脅迫應激反應,濃度適宜時的NO以多種方式參與調(diào)控植物對各種逆境脅迫的反應過程。如鹽害、高溫、低溫、干旱等。本研究以基質(zhì)培津研4號黃瓜幼苗為試材,置光周期14 h/10 h、晝夜溫度25℃/20℃光照培養(yǎng)箱內(nèi),葉面噴施一氧化氮NO供體(SNP,亞硝基鐵氰化鈉)、GSH合成酶抑制劑(BSO,丁硫氨酸亞砜胺)、NADPH合成酶抑制劑(6-AN,6-氨基煙酰胺),24 h后晝夜溫度降至10℃/6℃,研究GSH參與低溫脅迫24 h后外源NO對黃瓜幼苗葉片細胞膜透性、氣體交換參數(shù)、葉綠素熒光參數(shù)等以及葉綠體細胞內(nèi)抗氧化酶活性以及氧化還原狀態(tài)的變化。得到以下結論:1、低溫脅迫24 ...

【文章頁數(shù)】：56 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖3-8GSH參與低溫脅迫下外源NO對黃瓜葉片VJ、φEo、WK、Mo、ψo、φPo、FO-K、FK-J、FJ-I和FI-p熒光參數(shù)的影響

圖3-8GSH參與低溫脅迫下外源NO對黃瓜葉片VJ、φEo、WK、Mo、ψo、φPo、FO-K、FK-J、FJ-I和FI-p熒光參數(shù)的影響Fig.3-8GSHinvolvedintheeffectofexogenousnitricoxideon....

圖3-14GSH參與低溫脅迫下外源NO對黃瓜幼苗葉片H2O2和O2-組織化學染色Fig.3-14GSHinvolvedintheeffectofexogenousnitricoxideonDABStainingforH2O2andO2˙-of

內(nèi)源GSH參與低溫脅迫下外源NO調(diào)控黃瓜葉片光合特性及葉綠體抗氧化的作用-13GSHinvolvedintheeffectsofexogenousnitricoxideontheexpressionofantioxidantenzyrelat....

本文編號：3919275