日光溫室甜椒起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培優(yōu)化機(jī)制研究
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)農(nóng)業(yè)科學(xué)院
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類(lèi)號(hào)】:S626;S641.3
【圖文】:
Venthole;2.基質(zhì) Substrate;3.鐵絲網(wǎng)槽 Groove;4.地膜 Plastic film;5.土壤 Soil圖 2- 1 土壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培法(SSC)橫切面和俯視圖Fig.2-1 Transverse section and Overlook map of SSC規(guī)格的鐵絲網(wǎng)槽分別為:窄槽(長(zhǎng)×寬×高=300 cm×6 cm×1510 cm)和標(biāo)準(zhǔn)槽(長(zhǎng)×寬×高=300 cm×10 cm×15 cm),內(nèi)嵌面距離底部 5 cm 打通氣孔,孔徑為 1 cm,孔距 10 cm。3 種以下 5 個(gè)處理:依次為土壟(CK)、窄壟(T1)、窄壟黑膜(T2T5)。栽培壟每壟長(zhǎng) 3 m,處理內(nèi)行距為 20 cm,處理間行表 2- 1 試驗(yàn)處理壟規(guī)格Table.2-1 Ridge specification of test treatment網(wǎng)槽類(lèi)型壟上底寬(cm)壟下底寬(cm)壟高(cm)
院碩士學(xué)位論文 第二章 SSC 壟規(guī)格對(duì)根區(qū)溫度和甜栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒株高的影響映了 SSC 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒整個(gè)生長(zhǎng)周期不同階段株高的影響。從圖推進(jìn),各處理甜椒的株高均呈逐步增長(zhǎng)的趨勢(shì),但同一個(gè)生育期內(nèi)各處定的差異。從幼苗期到果實(shí)成熟期株高一直以 CK 土壤栽培的最高,并 處理株高顯著高于其他 5 個(gè)處理。結(jié)果期時(shí),CK、T3、T4、T5 處理 T4 處理外,其余幾個(gè)處理株高均顯著高于 T1、T2 處理。結(jié)果期,以 cm,顯著高于 T1、T2 和 T4 處理,但與其他各處理之間差異不顯著;椒株高均差異不顯著。
圖 2- 7 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒莖粗生長(zhǎng)的影響Fig.2-7 Effect of ridge specification on stem diameter of sweet pepper栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒葉片葉綠素含量的影響反映了葉片中葉綠素的相對(duì)含量,SPAD 值高,則說(shuō)明葉片中葉綠素含則表明葉片中葉綠素含量低。圖 2-8 則反映了 SSC 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒片葉綠素含量的影響。從圖中可以看出隨著生育期的推進(jìn),各處理下甜逐步增加的趨勢(shì),但在相同的生育期內(nèi)各處理甜椒葉片葉綠素含量之間各處理甜椒葉片葉綠素含量以 T4 最高為 51.0,以 T2 最低為 48.8,二期,甜椒葉片葉綠素含量以 CK 最高為 57.5,T2 最小為 49.0,CK 處理別顯著高于 T2 和 T3 處理。結(jié)果期時(shí),以 T3 處理的甜椒葉片葉綠素含量 61.4,6 個(gè)處理之間葉綠素含量差異不顯著。成熟期時(shí),各處理的莖粗 最低為 66.6,兩者之間差異顯著。
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