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日光溫室甜椒起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培優(yōu)化機(jī)制研究

發(fā)布時(shí)間:2020-07-24 11:22
【摘要】:日光溫室傳統(tǒng)的土壤栽培環(huán)境可控性差,冬春茬低溫脅迫頻繁,高產(chǎn)穩(wěn)產(chǎn)能力低等問(wèn)題持續(xù)存在,并且生產(chǎn)中過(guò)量施肥較為普遍,養(yǎng)分利用率低,資源問(wèn)題突出,環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)大。為了解決上述問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)設(shè)施蔬菜高產(chǎn)穩(wěn)產(chǎn)綠色可持續(xù)發(fā)展,傅國(guó)海發(fā)明了設(shè)施蔬菜土壤起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培方式(Soil-ridged and substrate-embedded cultivation,SSC)。本研究在前人方式提出的基礎(chǔ)上,對(duì)新的栽培方式進(jìn)行了深一步的優(yōu)化試驗(yàn)探究,以期能夠形成配套的SSC壟工藝參數(shù),提質(zhì)增效,使新型栽培方式能夠更好地應(yīng)用于生產(chǎn)實(shí)踐。為此,我們以甜椒生長(zhǎng)表現(xiàn)及根區(qū)溫度響應(yīng)特征為參考指標(biāo),對(duì)SSC的壟規(guī)格、基質(zhì)組成和根區(qū)養(yǎng)分效應(yīng)分別進(jìn)行了大田試驗(yàn)探究。1.為了明確起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培不同壟規(guī)格的溫?zé)岷蜕a(chǎn)性能,在日光溫室中進(jìn)行大田試驗(yàn),以土壟(CK)為對(duì)照,設(shè)置了窄壟(T1)、窄壟黑膜(T2)、矮壟(T3)、墊高壟(T4)和標(biāo)準(zhǔn)壟(T5)5種處理,探究栽培壟高度、寬度和覆膜類(lèi)型對(duì)根區(qū)溫?zé)嵋约疤鸾飞L(zhǎng)的影響。試驗(yàn)結(jié)果表明:黑色地膜的增溫效果差,晝夜平均溫度較白色透明地膜低1.0℃左右;夜間根區(qū)溫度隨著栽培壟寬度的減小而降低,而栽培壟高度的變化對(duì)根區(qū)溫度的影響并不明顯。雖然各處理根區(qū)溫度日變化略有差異,但晝夜平均溫度均在17.5~19.0℃,彼此間溫差在1.0℃左右。栽培壟的高度、寬度和覆膜類(lèi)型對(duì)甜椒的株高、莖粗和SPAD影響差異不顯著。但與對(duì)照相比,試驗(yàn)組各處理的產(chǎn)量均有所提高,并以T3矮壟處理產(chǎn)量最高為6.1 kg/m~2,比CK產(chǎn)量提高了90.6%,此外,在試驗(yàn)組中也以T3處理的植株干物質(zhì)積累量最高。綜上,在相同的滴灌水平下,基質(zhì)槽與壟規(guī)格的改變對(duì)根區(qū)溫度和甜椒的株高、莖粗、葉片葉綠素含量影響較弱;但以T3矮壟處理具有最高的產(chǎn)量,生產(chǎn)性能最佳,故在日光溫室生產(chǎn)中矮壟(基質(zhì)槽:寬×高=10 cm×10 cm)具有更好的應(yīng)用前景。2.探究不同施肥濃度和壟規(guī)格處理下新型栽培方式對(duì)甜椒產(chǎn)量和氮磷吸收利用的影響,明確新型栽培方式下根區(qū)氮磷殘留的效果。在日光溫室中對(duì)甜椒進(jìn)行分區(qū)試驗(yàn),在相同的灌水量下設(shè)置高低2個(gè)施肥水平,并在每個(gè)施肥小區(qū)內(nèi)以土壟(SR)為對(duì)照,設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)壟(NR)、矮標(biāo)準(zhǔn)壟(NRs)、窄標(biāo)準(zhǔn)壟(NRn)和種植密度加倍標(biāo)準(zhǔn)壟(NRd)4種不同規(guī)格的壟嵌式基質(zhì)栽培壟,探究不同施肥量和壟規(guī)格對(duì)甜椒產(chǎn)量、生物量以根區(qū)養(yǎng)分殘留的影響。結(jié)果表明,增加施肥量可以提高甜椒的產(chǎn)量、生物量、株高和莖粗,但在葉綠素含量上沒(méi)有顯著差異。養(yǎng)分在根區(qū)的殘留與施肥量有顯著正相關(guān),隨著施肥量的增加養(yǎng)分在根區(qū)的積累也會(huì)增加;內(nèi)嵌基質(zhì)栽培與土壤相比能夠促進(jìn)甜椒對(duì)養(yǎng)分的吸收,降低養(yǎng)分在根區(qū)的積累,尤其能顯著降低硝態(tài)氮的含量,避免土壤污染。2個(gè)施肥小區(qū)中,均以NRs矮壟處理產(chǎn)量最高,并且根區(qū)養(yǎng)分殘留相對(duì)較低,故優(yōu)化的NRs處理壟規(guī)格在日光溫室中具有更好的應(yīng)用前景。3.為探究起壟內(nèi)嵌式栽培基質(zhì)配比對(duì)甜椒生長(zhǎng)和根區(qū)溫度的影響,在日光溫室中以土壤栽培(CK)為對(duì)照,共設(shè)置4種不同基質(zhì)配比(體積比):草炭:蛭石:珍珠巖=1:1:1、2:1:1、3:1:1和3:2:1。結(jié)果表明:根區(qū)基質(zhì)溫度受兩側(cè)土壤溫度的影響,與兩側(cè)土壤溫度呈極顯著相關(guān);不同基質(zhì)配比根區(qū)溫度日變化規(guī)律不一致,但日平均溫度無(wú)顯著差異;4種基質(zhì)配比的根區(qū)晝夜平均溫差均比土壤低1.0~2.0℃;|(zhì)配比對(duì)不同生育階段甜椒的株高、莖粗和SPAD沒(méi)有顯著性影響,但2:1:1配比處理能顯著提高甜椒的干物質(zhì)量。4種基質(zhì)栽培的甜椒產(chǎn)量均高于土壤,其中2:1:1配比處理產(chǎn)量最高為6.46 kg/m~2,比土壤高103.1%。在植物體養(yǎng)分含量上,總的來(lái)看也以配比2處理的甜椒含量最高?偨Y(jié)而言,基質(zhì)配比對(duì)根區(qū)溫度和甜椒的株高、莖粗、葉片葉綠素含量上影響不顯著,但草炭:蛭石:珍珠巖=2:1:1基質(zhì)配比能夠顯著促進(jìn)甜椒干物質(zhì)量積累、產(chǎn)量的提高和養(yǎng)分的吸收,更適合應(yīng)用于日光溫室甜椒生產(chǎn)。
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)農(nóng)業(yè)科學(xué)院
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類(lèi)號(hào)】:S626;S641.3
【圖文】:

基質(zhì)栽培,內(nèi)嵌式,橫切面,俯視圖


Venthole;2.基質(zhì) Substrate;3.鐵絲網(wǎng)槽 Groove;4.地膜 Plastic film;5.土壤 Soil圖 2- 1 土壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培法(SSC)橫切面和俯視圖Fig.2-1 Transverse section and Overlook map of SSC規(guī)格的鐵絲網(wǎng)槽分別為:窄槽(長(zhǎng)×寬×高=300 cm×6 cm×1510 cm)和標(biāo)準(zhǔn)槽(長(zhǎng)×寬×高=300 cm×10 cm×15 cm),內(nèi)嵌面距離底部 5 cm 打通氣孔,孔徑為 1 cm,孔距 10 cm。3 種以下 5 個(gè)處理:依次為土壟(CK)、窄壟(T1)、窄壟黑膜(T2T5)。栽培壟每壟長(zhǎng) 3 m,處理內(nèi)行距為 20 cm,處理間行表 2- 1 試驗(yàn)處理壟規(guī)格Table.2-1 Ridge specification of test treatment網(wǎng)槽類(lèi)型壟上底寬(cm)壟下底寬(cm)壟高(cm)

甜椒,株高,規(guī)格


院碩士學(xué)位論文 第二章 SSC 壟規(guī)格對(duì)根區(qū)溫度和甜栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒株高的影響映了 SSC 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒整個(gè)生長(zhǎng)周期不同階段株高的影響。從圖推進(jìn),各處理甜椒的株高均呈逐步增長(zhǎng)的趨勢(shì),但同一個(gè)生育期內(nèi)各處定的差異。從幼苗期到果實(shí)成熟期株高一直以 CK 土壤栽培的最高,并 處理株高顯著高于其他 5 個(gè)處理。結(jié)果期時(shí),CK、T3、T4、T5 處理 T4 處理外,其余幾個(gè)處理株高均顯著高于 T1、T2 處理。結(jié)果期,以 cm,顯著高于 T1、T2 和 T4 處理,但與其他各處理之間差異不顯著;椒株高均差異不顯著。

甜椒,莖粗,規(guī)格,葉綠素含量


圖 2- 7 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒莖粗生長(zhǎng)的影響Fig.2-7 Effect of ridge specification on stem diameter of sweet pepper栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒葉片葉綠素含量的影響反映了葉片中葉綠素的相對(duì)含量,SPAD 值高,則說(shuō)明葉片中葉綠素含則表明葉片中葉綠素含量低。圖 2-8 則反映了 SSC 栽培壟規(guī)格對(duì)甜椒片葉綠素含量的影響。從圖中可以看出隨著生育期的推進(jìn),各處理下甜逐步增加的趨勢(shì),但在相同的生育期內(nèi)各處理甜椒葉片葉綠素含量之間各處理甜椒葉片葉綠素含量以 T4 最高為 51.0,以 T2 最低為 48.8,二期,甜椒葉片葉綠素含量以 CK 最高為 57.5,T2 最小為 49.0,CK 處理別顯著高于 T2 和 T3 處理。結(jié)果期時(shí),以 T3 處理的甜椒葉片葉綠素含量 61.4,6 個(gè)處理之間葉綠素含量差異不顯著。成熟期時(shí),各處理的莖粗 最低為 66.6,兩者之間差異顯著。

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