發(fā)布時(shí)間：2017-09-24 10:26

  本文關(guān)鍵詞：NiCr高溫薄膜電阻應(yīng)變計(jì)制備及耐高溫性能研究

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【摘要】：針對(duì)高溫環(huán)境下應(yīng)力應(yīng)變測(cè)試的技術(shù)難題,提出了一種以NiCr薄膜為敏感材料的高溫薄膜應(yīng)變計(jì)的制備方法,并對(duì)薄膜應(yīng)變計(jì)敏感層的耐高溫性能進(jìn)行研究。研究發(fā)現(xiàn),NiCr薄膜在高溫下微觀結(jié)構(gòu)、成分發(fā)生明顯轉(zhuǎn)變,電學(xué)性能急劇下降。對(duì)添加SiN_xO_y和ITO薄膜后的NiCr薄膜分別進(jìn)行高溫測(cè)試發(fā)現(xiàn),NiCr薄膜結(jié)構(gòu)、性能沒(méi)有明顯改變,表明SiN_xO_y和ITO薄膜保護(hù)下的NiCr薄膜高溫下性能穩(wěn)定。所制的高溫薄膜應(yīng)變計(jì)在50~350℃內(nèi)電阻溫度系數(shù)為(80~787)×10-6/K,常溫下應(yīng)變靈敏系數(shù)為1.19,機(jī)械滯后為5.02,高溫下的應(yīng)變測(cè)試性能有待進(jìn)一步研究。
【作者單位】： 大連交通大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院;大連交通大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： NiCr高溫薄膜電阻應(yīng)變計(jì) 耐高溫性能 光刻工藝 電阻溫度系數(shù)
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51575074)項(xiàng)目資助
【分類(lèi)號(hào)】：TH823.3
【正文快照】： 1引言電阻應(yīng)變計(jì)是世界上最常用的應(yīng)力分析敏感元件之一,它主要利用材料在受到外界應(yīng)力時(shí),電阻應(yīng)變計(jì)的電阻值發(fā)生相應(yīng)變化的特征[1],通過(guò)變換電路將電阻值變化轉(zhuǎn)換為電壓值變化的輸出。目前應(yīng)力測(cè)試主要有絲式應(yīng)變計(jì)和箔式應(yīng)變計(jì),由于需要將電阻應(yīng)變計(jì)粘貼到待測(cè)物體表面,這

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1 ;Dynamic Calibration of the Cutting Temperature Sensor of NiCr/NiSi Thin-film Thermocouple[J];Chinese Journal of Mechanical Engineering;2011年01期

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1 周勇;渦輪葉片應(yīng)變測(cè)量用NiCr薄膜應(yīng)變計(jì)的研制[D];電子科技大學(xué);2014年

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本文編號(hào)：910899