本文關(guān)鍵詞：磁流變拋光去除函數(shù)形狀動(dòng)態(tài)預(yù)測(cè)方法

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【摘要】：提出了一種磁流變拋光去除函數(shù)形狀的動(dòng)態(tài)預(yù)測(cè)方法。建立了去除函數(shù)形狀的演變機(jī)制,并根據(jù)實(shí)際的磁流變拋光應(yīng)用范圍,通過(guò)數(shù)值計(jì)算分析得到了較簡(jiǎn)單的去除函數(shù)形狀的演變方法。分析表明,對(duì)于實(shí)際拋光過(guò)程,去除函數(shù)長(zhǎng)度和寬度的改變量與浸入深度的改變量有很好的線性關(guān)系,其決定系數(shù)均在95%以上。與實(shí)驗(yàn)結(jié)果對(duì)比,對(duì)去除函數(shù)的49次預(yù)測(cè)中,長(zhǎng)度預(yù)測(cè)的相對(duì)誤差在-4.52%~5.51%之間,寬度預(yù)測(cè)的相對(duì)誤差在-7.20%~6.63%之間。
【作者單位】： 中國(guó)工程物理研究院機(jī)械制造工藝研究所;
【關(guān)鍵詞】： 磁流變拋光 去除函數(shù) 拋光斑演繹 動(dòng)態(tài)預(yù)測(cè)
【基金】：國(guó)防基礎(chǔ)科研項(xiàng)目(A1520133005) 中國(guó)工程物理研究院預(yù)先研究課題(K818-13-Y)
【分類(lèi)號(hào)】：TH74
【正文快照】： 應(yīng)用于慣性約束聚變(ICF)和極端條件物理實(shí)驗(yàn)的強(qiáng)激光系統(tǒng),如NIF,CEA,OMEGA等,使用了大量高精度光學(xué)元件,如大口徑平面和連續(xù)相位板[1]。磁流變拋光是一種子孔徑確定量拋光技術(shù),一般用于這類(lèi)光學(xué)元件最終修形,以控制其全頻段誤差[2-4]。去除函數(shù)形狀的確定性對(duì)低中頻誤差的收

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