本文關鍵詞：用于承載銣原子鐘濾光泡的高品質微腔體制備

  更多相關文章： 微腔體 銣原子鐘 各項異性濕法腐蝕 超聲腐蝕 激光共聚焦掃描顯微鏡 凸角補償

【摘要】：在芯片級銣原子鐘中,需要微腔體來承載Rb—87濾光泡,為此,提出了一種用于制作高品質微腔體的新技術。為了獲得光滑的腔體側面和避免腐蝕過程中凸角處產(chǎn)生削角現(xiàn)象,研究中采用了超聲腐蝕技術和凸角補償技術。首先,分別在純KOH溶液,并結合攪拌和超聲等方法,對(100)硅片進行濕法腐蝕,并運用激光共聚焦掃描顯微鏡對腐蝕后的{111}表面進行粗糙度測量,表明運用超聲腐蝕技術可以獲得光滑的{111}腔體側面。在此基礎上,引入條形掩模凸角補償方法進行微腔體腐蝕。實驗結果表明:在80℃、質量分數(shù)為30%KOH、超聲頻率和功率分別為59 kHz和160 W的溶液中腐蝕,其{111}腐蝕表面粗糙度為0.117μm,同時條形的長度取1200μm時,可以獲得平滑規(guī)整的微腔體。
【作者單位】： 廈門大學物理與機電工程學院;廈門大學薩本棟微米納米技術研究院;
【關鍵詞】： 微腔體 銣原子鐘 各項異性濕法腐蝕 超聲腐蝕 激光共聚焦掃描顯微鏡 凸角補償
【基金】：福建省重大科技項目前期研究計劃資助項目(2005HZ1021)
【分類號】：TH714.14
【正文快照】： 0引言硅各向異性腐蝕工藝是MEMS加工技術的重要組成部分。(100)硅片各向異性腐蝕后,{111}斜面與{100}底面成54.74°。通過提高KOH腐蝕溶液的溶度、在腐蝕溶液添加異丙醇、腐蝕過程中采用磁力攪拌等技術,而后進行表征,發(fā)現(xiàn)上述腐蝕技術能夠明顯改善{100}晶面的腐蝕質量,能夠有

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