本文關(guān)鍵詞：雙光纖相移點(diǎn)衍射干涉儀裝調(diào)技術(shù)

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【摘要】：為了實(shí)現(xiàn)對(duì)極紫外光刻物鏡系統(tǒng)波像差的超高精度檢測(cè),引入了雙光纖相移點(diǎn)衍射干涉儀,介紹了其工作原理,并對(duì)干涉儀的裝調(diào)方案進(jìn)行了精密的設(shè)計(jì)。解決了各個(gè)元器件的精確定位問題,保證了進(jìn)入光纖之前的測(cè)試光和參考光嚴(yán)格垂直,實(shí)現(xiàn)了耦合系統(tǒng)與光纖之間最大的耦合效率和干涉條紋最大的條紋對(duì)比度,為最終能夠?qū)崿F(xiàn)極紫外光刻物鏡系統(tǒng)波像差的超高精度檢測(cè)提供了前期準(zhǔn)備。裝調(diào)完畢后,利用實(shí)驗(yàn)裝置對(duì)某一光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了測(cè)量,使用十三步相移算法還原被檢光學(xué)系統(tǒng)波像差,得到了較好的結(jié)果,測(cè)試結(jié)果為:PV值為37.82 nm,RMS值為7.83 nm。
【作者單位】： 東北電力大學(xué)理學(xué)院;中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 裝調(diào)技術(shù) 雙光纖相移點(diǎn)衍射干涉儀 光學(xué)系統(tǒng)波像差 光學(xué)檢測(cè)
【基金】：東北電力大學(xué)博士科研啟動(dòng)基金(BSJXM-201218)
【分類號(hào)】：TH744.3;O436.1
【正文快照】： 0引言極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為下一代光刻技術(shù)的最佳候選技術(shù),它最大程度地繼承了目前光學(xué)光刻的發(fā)展成果。作為光刻機(jī)核心單元之一的光刻物鏡為了實(shí)現(xiàn)光刻分辨率及臨界尺寸控制的要求,其RMS波像差應(yīng)小于1 nm rms,要檢測(cè)如此高精度的光學(xué)系統(tǒng),就需要更高精度的檢測(cè)設(shè)備,其檢

【參考文獻(xiàn)】

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5 張宇;金春水;馬冬梅;王麗萍;;可見光移相點(diǎn)衍射干涉儀的空氣擾動(dòng)誤差分析[J];紅外與激光工程;2012年07期

【共引文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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1 畢精會(huì);相移干涉術(shù)中相移誤差校正算法及應(yīng)用研究[D];昆明理工大學(xué);2006年

【相似文獻(xiàn)】

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1 趙瑞萍;熊望娥;;光學(xué)系統(tǒng)計(jì)算機(jī)輔助裝調(diào)分析與應(yīng)用[J];現(xiàn)代電子技術(shù);2010年20期

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中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前1條

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本文編號(hào)：751672