本文關(guān)鍵詞：常壓電感耦合等離子體工藝用于加工光學(xué)材料的去除函數(shù)研究

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【摘要】：介紹了使用常壓條件下的電感耦合等離子體加工工藝用于加工硅基材料的光學(xué)反射鏡,諸如:熔石英、反應(yīng)燒結(jié)碳化硅(RB-SiC)、硅等材料。主要研究等離子炬在不同硅基材料上的去除函數(shù)的有效性。針對(duì)獲得去除函數(shù)進(jìn)行高斯函數(shù)擬合,其半峰全寬(FWHM)為18mm。去除率分別為10.86,0.82,1.51μm/min。利用此工藝加工了一塊100mm口徑的碳化硅鏡坯,獲得的實(shí)際面形與虛擬加工面形偏差比在8.57%,收斂率偏差在4.7%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示在常壓條件下加工大口徑非球面反射鏡具有良好的去除特性。因此,常壓電感耦合等離子體工藝在高精度大口徑非球面反射鏡加工領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所中國(guó)科學(xué)院光學(xué)系統(tǒng)先進(jìn)制造技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)制造 常壓電感耦合等離子體 碳化硅 高精度 非球面
【基金】：國(guó)家973計(jì)劃(2011CB0320005)
【分類號(hào)】：TG664;TH74
【正文快照】： 1引言在地球上已經(jīng)被發(fā)現(xiàn)的物質(zhì)組成狀態(tài)主要有三種:固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。而等離子態(tài)經(jīng)常被人們視為第四種物質(zhì)形態(tài)。但研究人員發(fā)現(xiàn)等離子態(tài)在宇宙中是最常見的形態(tài),在可見的宇宙當(dāng)中有超過99%的物質(zhì)屬于等離子態(tài)。0816001-1根據(jù)產(chǎn)生等離子體的環(huán)境條件,可以把等離子體分為2種:

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前8條

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4 黎發(fā)志;羅霄;趙晶麗;薛棟林;鄭立功;張學(xué)軍;;離軸非球面CGH高精度檢測(cè)技術(shù)[J];光學(xué)精密工程;2011年03期

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中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

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本文編號(hào)：703510