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超精表面缺陷檢測的光學混頻誤差分析

發(fā)布時間:2017-08-17 01:13

  本文關鍵詞:超精表面缺陷檢測的光學混頻誤差分析


  更多相關文章: 測量 外差干涉 偏振光 瓊斯矩陣 頻率混疊 非線性誤差


【摘要】:雙頻激光外差干涉法與掃描探針相結合的超精表面缺陷檢測系統具有很高的分辨率。但系統光源和光學器件的各種誤差因素會產生非線性混頻誤差,影響系統精確測量。利用瓊斯矩陣分析了同時存在激光光源橢圓偏振化和方位角誤差以及光學器件相位延遲和偏振泄漏等綜合因素引起的偏振態(tài)變化,并由此研究了它們頻率混疊產生的非線性誤差。結果表明,由各種誤差因素引起的非線性混頻誤差呈正弦規(guī)律變化,激光光源非理想和偏振分光鏡對位移測量誤差影響較大而1/4波片的影響較小。同時,結合計算結果對系統提出了減少非線性誤差的方法措施。
【作者單位】: 廣西師范大學物理科學與技術學院;清華大學精密測試技術及儀器國家重點實驗室;
【關鍵詞】測量 外差干涉 偏振光 瓊斯矩陣 頻率混疊 非線性誤差
【基金】:國家自然科學基金(61362035,51275259)
【分類號】:TH74
【正文快照】: 1引言對超精加工表面進行檢測是盤片或晶片制造過程中的重要組成部分。電子產品高集成化和高性能化發(fā)展,要求對拋光盤片或晶片的超精表面缺陷檢測實現納米級分辨率進而提高成品率。相對于表面檢測技術如光學干涉法等[1-3],外差干涉與探針掃描集成化檢測技術則具有納米級的縱向

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