本文關(guān)鍵詞：超精表面缺陷檢測(cè)的光學(xué)混頻誤差分析

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【摘要】：雙頻激光外差干涉法與掃描探針相結(jié)合的超精表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)具有很高的分辨率。但系統(tǒng)光源和光學(xué)器件的各種誤差因素會(huì)產(chǎn)生非線性混頻誤差,影響系統(tǒng)精確測(cè)量。利用瓊斯矩陣分析了同時(shí)存在激光光源橢圓偏振化和方位角誤差以及光學(xué)器件相位延遲和偏振泄漏等綜合因素引起的偏振態(tài)變化,并由此研究了它們頻率混疊產(chǎn)生的非線性誤差。結(jié)果表明,由各種誤差因素引起的非線性混頻誤差呈正弦規(guī)律變化,激光光源非理想和偏振分光鏡對(duì)位移測(cè)量誤差影響較大而1/4波片的影響較小。同時(shí),結(jié)合計(jì)算結(jié)果對(duì)系統(tǒng)提出了減少非線性誤差的方法措施。
【作者單位】： 廣西師范大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;清華大學(xué)精密測(cè)試技術(shù)及儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 測(cè)量 外差干涉 偏振光 瓊斯矩陣 頻率混疊 非線性誤差
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(61362035,51275259)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 1引言對(duì)超精加工表面進(jìn)行檢測(cè)是盤片或晶片制造過(guò)程中的重要組成部分。電子產(chǎn)品高集成化和高性能化發(fā)展,要求對(duì)拋光盤片或晶片的超精表面缺陷檢測(cè)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)分辨率進(jìn)而提高成品率。相對(duì)于表面檢測(cè)技術(shù)如光學(xué)干涉法等[1-3],外差干涉與探針掃描集成化檢測(cè)技術(shù)則具有納米級(jí)的縱向

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本文編號(hào)：686423