本文關(guān)鍵詞：基于應(yīng)變梯度理論的光柵鋁膜本構(gòu)關(guān)系表征及納米壓痕實驗

  更多相關(guān)文章： 光柵刻劃 光柵鋁膜 玻璃基底 本構(gòu)關(guān)系 納米壓痕

【摘要】：基于應(yīng)變梯度理論,提出了一種玻璃基底光柵鋁膜本構(gòu)關(guān)系的表征方法。建立了包含基底參數(shù)和鋁膜參數(shù)的本構(gòu)關(guān)系數(shù)學(xué)模型,并逐一表征了相關(guān)參數(shù)。進(jìn)行了79g/mm中階梯光柵鋁膜的納米壓痕實驗,驗證了上述本構(gòu)關(guān)系表征過程的正確性。提出了光柵薄膜材料和基底材料都具有尺度效應(yīng)的假設(shè),并應(yīng)用納米壓痕實驗對鋁膜的尺度效應(yīng)和基底效應(yīng)進(jìn)行了實驗表征。對光柵鋁膜壓痕實驗與含基底壓深實驗的結(jié)果進(jìn)行了比較,結(jié)果顯示,在有無基底條件下,壓痕結(jié)果在應(yīng)力方向上相差0.8倍,在應(yīng)變方向上相差3倍。進(jìn)行了光柵刻劃實驗,結(jié)果顯示壓痕實驗對刻劃實驗具有重要的指導(dǎo)作用。研究過程及研究結(jié)果表明:理論分析和兩種實驗可有效地分析光柵刻劃過程,有助于在實際光柵刻劃過程中減小誤差,對光柵刻劃的工藝過程具有較好的理論指導(dǎo)意義。
【作者單位】： 長春理工大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 光柵刻劃 光柵鋁膜 玻璃基底 本構(gòu)關(guān)系 納米壓痕
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(No.51075042,No.51405031)
【分類號】：TH74;O436.1
【正文快照】： 1引言衍射光柵作為一種精密的光學(xué)元件,其上有規(guī)則的配置著線、縫或槽,使光源通過衍射和干涉,經(jīng)透鏡聚焦作用形成光譜,被廣泛應(yīng)用于光譜分析等科學(xué)領(lǐng)域[1]。光柵機(jī)械刻劃是衍射光柵制造的重要手段,在制作光柵母板等方面具有不可替代的地位[2-3]。長期以來,國內(nèi)的光柵機(jī)械刻劃

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本文編號：656183