本文關(guān)鍵詞：提高反應(yīng)燒結(jié)碳化硅反射鏡光學(xué)性能的研究

  更多相關(guān)文章： 薄膜 反應(yīng)燒結(jié)碳化硅 表面改性 總積分散射 等離子輔助沉積

【摘要】：反應(yīng)燒結(jié)碳化硅(RB-SiC)是一種性能良好的反射鏡鏡胚材料,但其固有的一些缺陷導(dǎo)致未經(jīng)特殊處理無法獲得光滑的光學(xué)表面。使用X射線衍射(XRD)測試了反應(yīng)燒結(jié)碳化硅試片的晶體結(jié)構(gòu),結(jié)果表明其主要成分為多晶態(tài)碳化硅和多晶態(tài)硅。掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡的測試結(jié)果指出鏡胚表面殘留的孔洞及拋光形成的臺(tái)階是造成散射降低光學(xué)性能的原因。通過等離子輔助沉積技術(shù)在反應(yīng)燒結(jié)碳化硅表面鍍制了一層硅改性層,消除了缺陷,再精細(xì)拋光硅改性層,獲得了質(zhì)量良好的光學(xué)表面。自行搭建的總積分散射儀對(duì)鍍制硅改性層前后的反應(yīng)燒結(jié)碳化硅表面進(jìn)行了測量,總積分散射分別為9.37%和1.84%,改性后數(shù)值降低到改性前的1/5。反應(yīng)燒結(jié)碳化硅反射鏡光學(xué)性能得到了明顯提高,接近拋光良好的K9玻璃。
【作者單位】： 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所光學(xué)系統(tǒng)先進(jìn)制造技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 薄膜 反應(yīng)燒結(jié)碳化硅 表面改性 總積分散射 等離子輔助沉積
【基金】：國家自然科學(xué)基金(60478035)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 1引言反射式光學(xué)系統(tǒng)在光學(xué)儀器中占有重要的地位,在望遠(yuǎn)鏡、經(jīng)緯儀、相機(jī)等方面都有廣泛的應(yīng)用。反射鏡作為反射式光學(xué)系統(tǒng)中的關(guān)鍵光學(xué)元件,一直都是各國科研機(jī)構(gòu)的重點(diǎn)研究對(duì)象之一。反應(yīng)燒結(jié)碳化硅(RB-SiC)是一種新型的陶瓷反射鏡鏡胚材料,具有比剛度高、熱穩(wěn)定性好和近凈

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