本文關(guān)鍵詞：恒星模擬器成像系統(tǒng)關(guān)鍵部件的研制

  更多相關(guān)文章： 非球面 數(shù)控拋光 面形精度 工藝參數(shù) 干涉截止濾光膜

【摘要】：為了滿足恒星模擬器成像系統(tǒng)的要求,針對系統(tǒng)中的關(guān)鍵部件,本文以Preston原理為基礎(chǔ),對非球面H-FK61光學(xué)玻璃元件的加工工藝進行了研究。通過對研拋過程中各項工藝參數(shù)的分析,經(jīng)過反復(fù)實驗優(yōu)化,解決了H-FK61光學(xué)玻璃材料質(zhì)軟且脆、不耐高溫、不易加工的問題。其次,本文以Ti_3O_5和Si O2為高低折射率材料,利用高反射膜堆疊加和添加匹配層進行優(yōu)化設(shè)計的辦法,設(shè)計了干涉截止濾光膜。在薄膜制備過程中,通過對各膜層殘余蒸鍍的研究與分析,解決了薄膜光譜曲線向長波方向漂移和通帶透過率下降的問題。經(jīng)檢測,Φ76mm H-FK61光學(xué)玻璃元件非球面面形精度為0.4322μm,干涉截止濾光膜在450nm-800nm波段平均透過率為95.7%,300nm-420nm、850nm-1200nm波段平均反射率分別為99.7%和99.6%,各項數(shù)據(jù)均符合部件的設(shè)計要求。
【關(guān)鍵詞】：非球面 數(shù)控拋光 面形精度 工藝參數(shù) 干涉截止濾光膜
【學(xué)位授予單位】：長春理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TH74
【目錄】：

• 摘要4-5
• ABSTRACT5-8
• 第一章 緒論8-12
• 1.1 引言8-9
• 1.2 研究現(xiàn)狀9-11
• 1.2.1 非球面加工技術(shù)的研究現(xiàn)狀9-10
• 1.2.2 濾光膜的研究現(xiàn)狀10-11
• 1.3 課題研究的主要內(nèi)容11-12
• 第二章 數(shù)控非球面加工與光學(xué)薄膜的理論基礎(chǔ)12-21
• 2.1 非球面基礎(chǔ)知識12-14
• 2.1.1 非球面分類12
• 2.1.2 非球面方程12-13
• 2.1.3 最佳比較球面與最大非球面度13-14
• 2.2 CCOS技術(shù)的理論基礎(chǔ)14-16
• 2.2.1 CCOS技術(shù)的基礎(chǔ)理論方程14-15
• 2.2.2 去除函數(shù)的推導(dǎo)15
• 2.2.3 駐留函數(shù)的計算15-16
• 2.3 光學(xué)薄膜的基礎(chǔ)理論16-21
• 2.3.1 對稱膜系的等效層17-19
• 2.3.2 高反射膜堆反射帶寬的展寬19-21
• 第三章 非球面H-FK61光學(xué)玻璃元件的制備與檢測21-37
• 3.1 非球面H-FK61光學(xué)玻璃的研拋工藝研究21-28
• 3.1.1 銑磨過程工藝參數(shù)研究21-23
• 3.1.2 拋光過程及其工藝參數(shù)研究23-28
• 3.2 非球面H-FK61光學(xué)玻璃元件面形檢測技術(shù)28-30
• 3.3 Φ76mm非球面H-FK61光學(xué)玻璃元件的加工與檢測30-36
• 3.3.1 非球面H-FK61光學(xué)玻璃元件的參數(shù)要求31
• 3.3.2 DIFFSYS Version軟件的模擬仿真31-32
• 3.3.3 非球面的數(shù)控銑磨成型32-33
• 3.3.4 非球面的拋光工藝33-36
• 3.4 測試結(jié)果分析36-37
• 第四章 干涉截止濾光膜的研制37-48
• 4.1 薄膜材料的選擇37-38
• 4.2 膜系設(shè)計38-39
• 4.3 干涉截止濾光膜的制備39-42
• 4.3.1 薄膜沉積設(shè)備39-41
• 4.3.2 工藝參數(shù)的確定41
• 4.3.3 干涉截止濾光膜制備的工藝流程41-42
• 4.4 干涉截止濾光膜的光譜測試與分析42-48
• 4.4.1 光譜性能測試與分析42-46
• 4.4.2 環(huán)境測試46-48
• 第五章 總結(jié)與展望48-50
• 5.1 總結(jié)48-49
• 5.2 展望49-50
• 致謝50-51
• 參考文獻51-52

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本文編號：559806