本文關(guān)鍵詞：基于小物鏡系統(tǒng)的熱像差影響因素分析

  更多相關(guān)文章： 光學(xué)設(shè)計(jì) 光機(jī)熱集成分析 熱像差 有限元法 Zernike多項(xiàng)式 折射率均勻性 熱載

【摘要】：光機(jī)熱集成分析是光機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中的重要環(huán)節(jié),對光學(xué)系統(tǒng)像質(zhì)的預(yù)測與補(bǔ)償有著重要的參考價值。針對小物鏡系統(tǒng),進(jìn)行光機(jī)熱集成分析,結(jié)果表明該系統(tǒng)產(chǎn)生的熱像差較大,影響系統(tǒng)光學(xué)性能,其中溫度升高導(dǎo)致折射率變化引入的系統(tǒng)熱像差較大;結(jié)構(gòu)熱變形引入的系統(tǒng)熱像差較小,可以忽略;鏡片與支撐結(jié)構(gòu)之間的導(dǎo)熱、上下窗口的空氣擾動、機(jī)械結(jié)構(gòu)外表面的環(huán)境對流也會存在一定影響,但影響較小。由此可知系統(tǒng)熱像差的主要影響因素是熱載的大小,設(shè)計(jì)過程中減少透鏡厚度及材料吸收率,降低系統(tǒng)熱載,是減小光學(xué)系統(tǒng)熱像差最為有效的途徑。
【作者單位】： 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)設(shè)計(jì) 光機(jī)熱集成分析 熱像差 有限元法 Zernike多項(xiàng)式 折射率均勻性 熱載
【基金】：國家科技重大專項(xiàng)(2009ZX02205)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 1引言近年來,隨著集成電路工業(yè)的迅猛發(fā)展,要求光刻機(jī)分辨率與生產(chǎn)率不斷提高,離軸照明的采用及曝光劑量的增加是滿足高分辨率及高生產(chǎn)率的兩種重要手段[1]。但上述方式的采用不可避免地引入另一種導(dǎo)致像質(zhì)劣化的現(xiàn)象,稱為熱像差。這就要求在光刻物鏡設(shè)計(jì)、制造及裝調(diào)各個環(huán)節(jié)

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【相似文獻(xiàn)】

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本文編號：553033