W/Si多層膜反射鏡在硬X射線天文望遠鏡中有重要應(yīng)用.為減小其應(yīng)力對反射鏡面形和望遠鏡分辨率的影響,同時保證較高的反射率,采用150,175和200°C的低溫退火工藝對采用磁控濺射鍍制的W/Si周期多層膜進行后處理.利用掠入射X射線反射測試和樣品表面面形測試對退火前后W/Si多層膜的應(yīng)力和結(jié)構(gòu)進行表征.結(jié)果表明,在150°C退火3 h后,多層膜1級峰反射率和膜層結(jié)構(gòu)幾乎沒有發(fā)生變化,應(yīng)力減少約27%;在175°C退火3 h后,多層膜膜層結(jié)構(gòu)開始發(fā)生變化,應(yīng)力減少約50%;在200°C退火3 h后,多層膜應(yīng)力減小超過60%,但1級布拉格峰反射率相對下降17%,且膜層結(jié)構(gòu)發(fā)生了較大變化.W,Si界面層的增大和相互擴散加劇是應(yīng)力和反射率下降的主要原因. 

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【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3653029