W/Si多層膜反射鏡在硬X射線天文望遠(yuǎn)鏡中有重要應(yīng)用.為減小其應(yīng)力對(duì)反射鏡面形和望遠(yuǎn)鏡分辨率的影響,同時(shí)保證較高的反射率,采用150,175和200°C的低溫退火工藝對(duì)采用磁控濺射鍍制的W/Si周期多層膜進(jìn)行后處理.利用掠入射X射線反射測(cè)試和樣品表面面形測(cè)試對(duì)退火前后W/Si多層膜的應(yīng)力和結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征.結(jié)果表明,在150°C退火3 h后,多層膜1級(jí)峰反射率和膜層結(jié)構(gòu)幾乎沒(méi)有發(fā)生變化,應(yīng)力減少約27%;在175°C退火3 h后,多層膜膜層結(jié)構(gòu)開(kāi)始發(fā)生變化,應(yīng)力減少約50%;在200°C退火3 h后,多層膜應(yīng)力減小超過(guò)60%,但1級(jí)布拉格峰反射率相對(duì)下降17%,且膜層結(jié)構(gòu)發(fā)生了較大變化.W,Si界面層的增大和相互擴(kuò)散加劇是應(yīng)力和反射率下降的主要原因. 

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【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：3653029