光學(xué)在人類發(fā)展的大系統(tǒng)中扮演著重要的角色,光學(xué)研究在人類基礎(chǔ)與工程應(yīng)用科學(xué)的研究占據(jù)重要地位,光學(xué)元件是實(shí)現(xiàn)光學(xué)功能的必然載體和必要工具。越來(lái)越多的回轉(zhuǎn)非球面和自由曲面光學(xué)元件被廣泛的應(yīng)用在現(xiàn)代光學(xué)設(shè)備上。對(duì)光學(xué)元件的表面質(zhì)量提出了更高的加工精度要求,如何提高加工質(zhì)量變成了重點(diǎn)的研究方向。小工具頭的計(jì)算機(jī)控制拋光技術(shù)的軌跡規(guī)劃研究基于Preston方程,推導(dǎo)球形工具頭拋光過(guò)程的局部去除率。建立拋光過(guò)程中的幾何關(guān)系,引用赫茲接觸理論得到了速度分布和壓力分布,構(gòu)造出局部去除模型。通過(guò)實(shí)驗(yàn)對(duì)去除模型進(jìn)行驗(yàn)證,以及赫茲接觸理論的適用性的相應(yīng)分析。曲面拋光需要重點(diǎn)考慮拋光頭曲率和曲面曲率之間比例變化對(duì)去除模型以及軌跡規(guī)劃的影響。分析在一定拋光參數(shù)條件下,工件表面曲率半徑與曲面曲率半徑比例范圍在r_工具頭<r_c<20r_工具頭,r_工具頭<r_m<20r_工具頭時(shí),拋光接觸區(qū)域橢圓主軸a、b的變化影響明顯。主軸的變化影響拋光接觸區(qū)域面積變化以及壓強(qiáng)變化。... 

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

非球面與球面成像示意圖

圖 1.3 不同誤差對(duì)光學(xué)性能的影響[11]空間頻率可分為：低頻誤差、中頻誤差、高頻誤差三種。不同統(tǒng)影響不同。低頻誤差影響聚焦性能，中頻誤差影響成像質(zhì)量統(tǒng)的對(duì)比度和信噪比。在傳統(tǒng)的光學(xué)元件加工質(zhì)量評(píng)價(jià)指標(biāo)中S(均方根值)、波前峰谷值。因此如何提高加工質(zhì)量變成了重點(diǎn)常見(jiàn)光學(xué)元件加工方法從上世紀(jì) 60 年代開(kāi)始對(duì)非球面加工，到 80 年代開(kāi)始出現(xiàn)各種加工技術(shù)。主要包括：計(jì)算機(jī)控制單點(diǎn)金剛石車削技術(shù)、計(jì)算及拋光技術(shù)，以及光學(xué)塑料成型技術(shù)等[12]。機(jī)控制單點(diǎn)金剛石車削技術(shù)（SPDT）：由美國(guó)國(guó)防部科研機(jī)構(gòu)

表 2.1 m 、n 與 θ 的關(guān)系表40° 50° 60° 70° 2.11 1.75 1.19 1.28 0.57 0.64 0.72 0.8 可通過(guò)插值計(jì)算得到。區(qū)拋光速度分析工具頭以一定壓力與被拋光工件接觸并旋轉(zhuǎn)心，1O 點(diǎn)為工具頭軸線 MN 與工件表面的 z 為工具頭壓縮量， 為工具頭軸線與角速度為 。

【參考文獻(xiàn)】：
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