毫米波/紅外波束合成器實(shí)驗(yàn)研究
發(fā)布時(shí)間:2021-09-03 01:38
毫米波/紅外(MMW/IR)波束合成器是毫米波/紅外雙模制導(dǎo)半實(shí)物仿真系統(tǒng)中的關(guān)鍵器件。介紹了一種波束合成器和對(duì)其進(jìn)行性能研究的實(shí)驗(yàn)裝置。研究結(jié)果表明:工作頻段為3436GHz的毫米波分別從30°、40°和50°方向入射到波束合成器,在垂直和水平兩種極化態(tài)下,透過率均大于50%,由器件引起的相位移均在3πrad以內(nèi);在紅外輻射入射角為20°60°的范圍內(nèi),當(dāng)波段為35μm時(shí),波束合成器的紅外反射率能達(dá)到90%以上,當(dāng)波段為812μm時(shí),反射率大于80%,水平和豎直方向的分辨率均在41″以內(nèi)。該器件已成功地應(yīng)用到半實(shí)物仿真系統(tǒng)中。
【文章來源】:光學(xué)技術(shù). 2015,41(06)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
圖4分辨率實(shí)驗(yàn)裝置示意圖向分水平和豎直兩個(gè)方向;采用可見光攝像機(jī)接收
研究這種拼接結(jié)構(gòu)對(duì)紅外輻射反射能力的影響,實(shí)驗(yàn)對(duì)反射面不同區(qū)域的紅外反射率進(jìn)行了測(cè)試,如圖7所示。以四塊反射鏡拼接為例來說明,編號(hào)1、3、7、9為單塊的區(qū)域,編號(hào)2、4、6、8為每?jī)蓧K拼接的區(qū)域,編號(hào)5為四塊反射鏡拼接的最中間區(qū)域,每塊區(qū)域在測(cè)試時(shí)保持所測(cè)面積大小相同。圖7紅外反射率測(cè)試區(qū)域示意圖紅外測(cè)試波段為3~5μm和8~12μm。圖8為紅外輻射入射角度為50°時(shí),不同測(cè)試區(qū)域的反射率。圖8紅外輻射入射角為50°時(shí)不同區(qū)域的反射率從圖8可以看出:在3~5μm和8~12μm兩紅外波段,波束合成器紅外反射率在各區(qū)域有所差別,在每?jī)蓧K反射鏡的拼接處由于存在一定的縫隙而導(dǎo)致反射率比單塊鏡低0.5%,在四塊鏡最中間處由于連接機(jī)構(gòu)的遮擋,紅外反射率比起單塊鏡降低了1%;此外,3~5μm紅外波段的反射率比8~12μm紅外波段高10%,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)有關(guān)。改變紅外輻射的入射角度,分別測(cè)得不同區(qū)域的紅外反射率。圖9反映了各區(qū)域的平均反射率隨入射角度的變化。由圖9可以看出:紅外反射率隨入射角度增加而緩慢增加,紅外輻射入射角在40°~50°之間反射率達(dá)到最大,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)結(jié)果一致。當(dāng)紅外輻射入射角在20°~60°范圍內(nèi)變化時(shí),波束合成器在3~5μm波段內(nèi)反射率最大值為91.7%,最小值為88.9%,平均值為90.6%;在8~12μm波段最大值為81.2%,最小值為80.1%,平均值為80.圖9反射率隨入射角度的變化7%。波束合成器在兩波段內(nèi)的
射角度增加而緩慢增加,紅外輻射入射角在40°~50°之間反射率達(dá)到最大,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)結(jié)果一致。當(dāng)紅外輻射入射角在20°~60°范圍內(nèi)變化時(shí),波束合成器在3~5μm波段內(nèi)反射率最大值為91.7%,最小值為88.9%,平均值為90.6%;在8~12μm波段最大值為81.2%,最小值為80.1%,平均值為80.圖9反射率隨入射角度的變化7%。波束合成器在兩波段內(nèi)的反射率均高于80%。2.4反射鏡拼接對(duì)成像分辨率的影響如圖10所示,選一反射鏡為基準(zhǔn),若其相鄰反射鏡與該反射鏡有一個(gè)微小的傾角Δθ,則當(dāng)同一束平行光入射到兩反射鏡上時(shí),根據(jù)反射原理,其反射光線之間會(huì)有2×(Δθ)的角度差。當(dāng)這兩反射光線通過光學(xué)系統(tǒng)在其焦平面上成像時(shí),將產(chǎn)生一個(gè)位置偏差,使像點(diǎn)變大,這就導(dǎo)致系統(tǒng)的成像分辨率降低。圖10反射面成像示意圖采用如圖4所示的實(shí)驗(yàn)裝置分別測(cè)量了單塊反射鏡區(qū)域以及拼接區(qū)域的分辨率。在單塊反射鏡區(qū)域,當(dāng)分辨率板上水平方向的線條寬度為1.3mm時(shí),達(dá)到分辨極限,根據(jù)式(4)計(jì)算可得水平分辨率為36″,當(dāng)豎直方向的線條寬度為1.2mm時(shí),達(dá)到分辨極限,則豎直分辨率為33″,這說明單塊反射鏡本身有一定的形變;在拼接區(qū)域,當(dāng)分辨率板上水平和豎直方向的線條寬度均為1.5mm時(shí),達(dá)到分辨極限,則水平和豎直分辨率均為41″。可見,不同反射鏡之間的拼接角度誤差對(duì)分辨率有較大的影響。3結(jié)論在鍍紅外反射膜的介質(zhì)基板技術(shù)的基礎(chǔ)上,提出了一種拼接式波束合成裝置,本文介紹了其組成和工作原理,采用不同的實(shí)驗(yàn)裝置分別對(duì)這
本文編號(hào):3380143
【文章來源】:光學(xué)技術(shù). 2015,41(06)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
圖4分辨率實(shí)驗(yàn)裝置示意圖向分水平和豎直兩個(gè)方向;采用可見光攝像機(jī)接收
研究這種拼接結(jié)構(gòu)對(duì)紅外輻射反射能力的影響,實(shí)驗(yàn)對(duì)反射面不同區(qū)域的紅外反射率進(jìn)行了測(cè)試,如圖7所示。以四塊反射鏡拼接為例來說明,編號(hào)1、3、7、9為單塊的區(qū)域,編號(hào)2、4、6、8為每?jī)蓧K拼接的區(qū)域,編號(hào)5為四塊反射鏡拼接的最中間區(qū)域,每塊區(qū)域在測(cè)試時(shí)保持所測(cè)面積大小相同。圖7紅外反射率測(cè)試區(qū)域示意圖紅外測(cè)試波段為3~5μm和8~12μm。圖8為紅外輻射入射角度為50°時(shí),不同測(cè)試區(qū)域的反射率。圖8紅外輻射入射角為50°時(shí)不同區(qū)域的反射率從圖8可以看出:在3~5μm和8~12μm兩紅外波段,波束合成器紅外反射率在各區(qū)域有所差別,在每?jī)蓧K反射鏡的拼接處由于存在一定的縫隙而導(dǎo)致反射率比單塊鏡低0.5%,在四塊鏡最中間處由于連接機(jī)構(gòu)的遮擋,紅外反射率比起單塊鏡降低了1%;此外,3~5μm紅外波段的反射率比8~12μm紅外波段高10%,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)有關(guān)。改變紅外輻射的入射角度,分別測(cè)得不同區(qū)域的紅外反射率。圖9反映了各區(qū)域的平均反射率隨入射角度的變化。由圖9可以看出:紅外反射率隨入射角度增加而緩慢增加,紅外輻射入射角在40°~50°之間反射率達(dá)到最大,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)結(jié)果一致。當(dāng)紅外輻射入射角在20°~60°范圍內(nèi)變化時(shí),波束合成器在3~5μm波段內(nèi)反射率最大值為91.7%,最小值為88.9%,平均值為90.6%;在8~12μm波段最大值為81.2%,最小值為80.1%,平均值為80.圖9反射率隨入射角度的變化7%。波束合成器在兩波段內(nèi)的
射角度增加而緩慢增加,紅外輻射入射角在40°~50°之間反射率達(dá)到最大,這與紅外反射膜的設(shè)計(jì)結(jié)果一致。當(dāng)紅外輻射入射角在20°~60°范圍內(nèi)變化時(shí),波束合成器在3~5μm波段內(nèi)反射率最大值為91.7%,最小值為88.9%,平均值為90.6%;在8~12μm波段最大值為81.2%,最小值為80.1%,平均值為80.圖9反射率隨入射角度的變化7%。波束合成器在兩波段內(nèi)的反射率均高于80%。2.4反射鏡拼接對(duì)成像分辨率的影響如圖10所示,選一反射鏡為基準(zhǔn),若其相鄰反射鏡與該反射鏡有一個(gè)微小的傾角Δθ,則當(dāng)同一束平行光入射到兩反射鏡上時(shí),根據(jù)反射原理,其反射光線之間會(huì)有2×(Δθ)的角度差。當(dāng)這兩反射光線通過光學(xué)系統(tǒng)在其焦平面上成像時(shí),將產(chǎn)生一個(gè)位置偏差,使像點(diǎn)變大,這就導(dǎo)致系統(tǒng)的成像分辨率降低。圖10反射面成像示意圖采用如圖4所示的實(shí)驗(yàn)裝置分別測(cè)量了單塊反射鏡區(qū)域以及拼接區(qū)域的分辨率。在單塊反射鏡區(qū)域,當(dāng)分辨率板上水平方向的線條寬度為1.3mm時(shí),達(dá)到分辨極限,根據(jù)式(4)計(jì)算可得水平分辨率為36″,當(dāng)豎直方向的線條寬度為1.2mm時(shí),達(dá)到分辨極限,則豎直分辨率為33″,這說明單塊反射鏡本身有一定的形變;在拼接區(qū)域,當(dāng)分辨率板上水平和豎直方向的線條寬度均為1.5mm時(shí),達(dá)到分辨極限,則水平和豎直分辨率均為41″。可見,不同反射鏡之間的拼接角度誤差對(duì)分辨率有較大的影響。3結(jié)論在鍍紅外反射膜的介質(zhì)基板技術(shù)的基礎(chǔ)上,提出了一種拼接式波束合成裝置,本文介紹了其組成和工作原理,采用不同的實(shí)驗(yàn)裝置分別對(duì)這
本文編號(hào):3380143
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/yiqiyibiao/3380143.html
最近更新
教材專著