隨著同步輻射光源和自由電子激光器相關(guān)技術(shù)的發(fā)展和光束質(zhì)量的提升,對(duì)用于轉(zhuǎn)遞和聚焦光束能量的X光反射鏡的指標(biāo)要求也逐漸提高。為避免引入額外的波前誤差,反射鏡面形高度誤差均方根值的要求已逼近至亞納米量級(jí)。如此苛刻的面形要求對(duì)X光反射鏡的測(cè)量工作帶來了極大的困難和挑戰(zhàn)。除了在各國同步輻射光源得到廣泛使用的長程輪廓儀等基于角度測(cè)量的輪廓掃描儀器之外,基于激光干涉儀的拼接干涉技術(shù)也發(fā)展為測(cè)量同步輻射鏡的一種有效手段。文中主要介紹了近期筆者等為測(cè)量X光反射鏡而開發(fā)的拼接干涉平臺(tái)。利用這一測(cè)量平臺(tái),研究了在不同的拼接參數(shù)下的多種拼接模式。著重講述了其中純軟件拼接模式的基本原理和實(shí)際測(cè)量。用實(shí)測(cè)結(jié)果與不同測(cè)量儀器和不同研究機(jī)構(gòu)的結(jié)果進(jìn)行比對(duì),驗(yàn)證了拼接干涉測(cè)量用于檢測(cè)同步輻射鏡的有效性,并展示了此拼接平臺(tái)的測(cè)量表現(xiàn)。根據(jù)所得的測(cè)量數(shù)據(jù)看來,使用純軟件拼接模式來測(cè)量X光平面反射鏡時(shí),測(cè)量重復(fù)性的均方差值可以達(dá)到0.1 nm左右;而測(cè)量X光雙曲柱面鏡時(shí)（曲率半徑的變化范圍為50～130 m）,測(cè)量重復(fù)性的均方差值為0.2～0.3 nm。此結(jié)果基本滿足平面和接近平面（曲率半徑大于50 m）的同步輻射鏡常規(guī)檢... 

【文章來源】：紅外與激光工程. 2020,49(03)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】：9 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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