發(fā)布時間：2021-07-13 16:42

　　隨著同步輻射光源和自由電子激光器相關(guān)技術(shù)的發(fā)展和光束質(zhì)量的提升,對用于轉(zhuǎn)遞和聚焦光束能量的X光反射鏡的指標(biāo)要求也逐漸提高。為避免引入額外的波前誤差,反射鏡面形高度誤差均方根值的要求已逼近至亞納米量級。如此苛刻的面形要求對X光反射鏡的測量工作帶來了極大的困難和挑戰(zhàn)。除了在各國同步輻射光源得到廣泛使用的長程輪廓儀等基于角度測量的輪廓掃描儀器之外,基于激光干涉儀的拼接干涉技術(shù)也發(fā)展為測量同步輻射鏡的一種有效手段。文中主要介紹了近期筆者等為測量X光反射鏡而開發(fā)的拼接干涉平臺。利用這一測量平臺,研究了在不同的拼接參數(shù)下的多種拼接模式。著重講述了其中純軟件拼接模式的基本原理和實際測量。用實測結(jié)果與不同測量儀器和不同研究機構(gòu)的結(jié)果進(jìn)行比對,驗證了拼接干涉測量用于檢測同步輻射鏡的有效性,并展示了此拼接平臺的測量表現(xiàn)。根據(jù)所得的測量數(shù)據(jù)看來,使用純軟件拼接模式來測量X光平面反射鏡時,測量重復(fù)性的均方差值可以達(dá)到0.1 nm左右;而測量X光雙曲柱面鏡時（曲率半徑的變化范圍為50～130 m）,測量重復(fù)性的均方差值為0.2～0.3 nm。此結(jié)果基本滿足平面和接近平面（曲率半徑大于50 m）的同步輻射鏡常規(guī)檢... 

【文章來源】：紅外與激光工程. 2020,49(03)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】：9 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號：3282423