隨著航空航天事業(yè)的發(fā)展,對具有復(fù)雜型面的太空望遠(yuǎn)鏡反射鏡的面形精度和表面質(zhì)量要求越來越高,需求量也越來越大。反應(yīng)燒結(jié)碳化硅（RB-SiC）因其優(yōu)異的物理、化學(xué)和機(jī)械性能成為大口徑反射鏡的主要材料之一。由于RB-SiC中硅相和SiC相存在硬度差異,必須對表面進(jìn)行非晶硅改性后才能通過拋光獲得超光滑表面。研究新的超光滑表面拋光方法,解決現(xiàn)有的超光滑表面拋光方法存在的拋光效率低、成本高和表面異常腐蝕等問題,對于大口徑RB-SiC反射鏡的超精密加工具有重要的意義。本研究提出一種應(yīng)用新型水性粘彈性拋光流體的內(nèi)循式超光滑表面拋光方法,基于拋光流體的流變性和壁面滑移特性研究,建立了流體本構(gòu)方程,優(yōu)選了流體配方和拋光工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)了單晶硅和非晶硅的超光滑表面拋光。研制出了以吸水樹脂與增稠劑復(fù)配水凝膠為載體的水性粘彈性拋光流體,證明了該拋光流體具有爬桿效應(yīng)和擠出脹大現(xiàn)象,拋光流體中的磨粒不發(fā)生沉降,穩(wěn)態(tài)粘度隨著剪切速率先增大后減小;通過觀測拋光流體的微觀形貌,發(fā)現(xiàn)流體表面分布了大量磨粒,內(nèi)部是三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu);拋光流體的流變性實(shí)驗(yàn)研究發(fā)現(xiàn)流體的動態(tài)粘彈特性隨著吸水樹脂濃度的增大而增大,隨著磨粒的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增大而... 

【文章來源】：山東大學(xué)山東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：103 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖１－１化學(xué)機(jī)械拋光示意圖［ｉ２】??

１．２．３離子束觸??離子束拋光是１９８８年由ＷＵｓｏｎ等人首先提出，是與傳統(tǒng)加工方法在原理上??完全不同的偉大技術(shù)革新。拋光原理如圖１－３所示，在真空中，高能離子束轟擊??到被加工的工件表面，使工件原子獲得掙脫晶格束縛能的能量，材料實(shí)現(xiàn)去除。??離子束拋光對工件初始表面質(zhì)量有一定的要求，材料去除函數(shù)接近高斯型［２２］，但??是其拋光設(shè)備昂貴，加工尺寸受限。盂曉輝［２３］采用離子束拋光方法對航天相機(jī)中??使用的非球面光學(xué)元件進(jìn)行三輪拋光，其面形精度從初始的ＰＶ＝１．３０２入、??ＲＭＳ＝０．２〇ａ?提高至?ＰＶ＝０．１５７Ａ、ＲＭＳ＝０．０１３？ｕ?滿足?了使用要求。??離子槍—＼＼２原子??圖１－３離子束拋光形式示意圖??１．２．４磁流變拋光??磁流變液是最早由Ｗ．Ｉ．Ｋｏｒｄｏｎｓｋｉ與Ｉ．Ｖ．Ｐｒｏｋｈｏｒｏｖ等人用在離合器、緩震器??等上，磁流變拋光的原理如圖１－４所示。磁流變拋光液由泵噴在拋光輪與工件之??間有高強(qiáng)度梯度磁場的工作區(qū)域，磁流變拋光液受到磁場的影響粘度增大，表現(xiàn)??４??

＾Ｗ＼?＼＾１??＿－二＞１１４峨，鬮??圖１－２剪切增稠拋光示意圖［２（）１??１．２．３離子束觸??離子束拋光是１９８８年由ＷＵｓｏｎ等人首先提出，是與傳統(tǒng)加工方法在原理上??完全不同的偉大技術(shù)革新。拋光原理如圖１－３所示，在真空中，高能離子束轟擊??到被加工的工件表面，使工件原子獲得掙脫晶格束縛能的能量，材料實(shí)現(xiàn)去除。??離子束拋光對工件初始表面質(zhì)量有一定的要求，材料去除函數(shù)接近高斯型［２２］，但??是其拋光設(shè)備昂貴，加工尺寸受限。盂曉輝［２３］采用離子束拋光方法對航天相機(jī)中??使用的非球面光學(xué)元件進(jìn)行三輪拋光，其面形精度從初始的ＰＶ＝１．３０２入、??ＲＭＳ＝０．２〇ａ?提高至?ＰＶ＝０．１５７Ａ、ＲＭＳ＝０．０１３？ｕ?滿足?了使用要求。??離子槍—＼＼２原子??圖１－３離子束拋光形式示意圖??１．２．４磁流變拋光??磁流變液是最早由Ｗ．Ｉ．Ｋｏｒｄｏｎｓｋｉ與Ｉ．Ｖ．Ｐｒｏｋｈｏｒｏｖ等人用在離合器、緩震器??等上，磁流變拋光的原理如圖１－４所示。磁流變拋光液由泵噴在拋光輪與工件之??間有高強(qiáng)度梯度磁場的工作區(qū)域

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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[4]基于有限元方法的磨料流加工數(shù)值模擬研究[D]. 趙培鋒.太原理工大學(xué) 2011
[5]磨料流拋光機(jī)及其工藝參數(shù)研究[D]. 趙秋樂.重慶大學(xué) 2011
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本文編號：3278872