基于光刻閾值模型的光柵精度預(yù)測及補(bǔ)償
發(fā)布時(shí)間:2021-06-25 01:18
光柵尺制造過程的預(yù)測及補(bǔ)償是提升其精度的主要方法之一。文章提出了一種基于光刻閾值模型的光柵尺精度預(yù)測及補(bǔ)償方法,采用矩形柵距傅里葉基波法,研究光柵尺計(jì)算光刻閾值模型及關(guān)鍵參數(shù)對光刻精度的影響;通過利用Matlab軟件建立計(jì)算光刻能量三維模型,對比分析光刻焦平面能量閾值界面,實(shí)現(xiàn)光柵尺精度的預(yù)測;通過仿真及試驗(yàn)分析焦平面能量幅值、相位參數(shù),關(guān)聯(lián)并調(diào)整直線運(yùn)動系統(tǒng)定位誤差、光刻曝光能量相關(guān)參數(shù)的補(bǔ)償方法,當(dāng)閾值平面角度θ=0時(shí),理想狀態(tài)情況下可以通過直接補(bǔ)償方式完全補(bǔ)償,多線均勻化間接補(bǔ)償可以將光柵條紋誤差提高97.3%,為高精度光柵尺的光刻和補(bǔ)償方法的計(jì)算提供了理論依據(jù)。
【文章來源】:組合機(jī)床與自動化加工技術(shù). 2020,(07)北大核心
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
SMD=0.51時(shí),兩種光強(qiáng)對比
如圖1所示為光刻能量閾值原理圖,圖中光柵尺焦平面光強(qiáng)采用矩形傅里葉基波來表征,p1和p2表示兩次相鄰對接光刻光強(qiáng)柵距,由于對準(zhǔn)誤差的存在兩次光刻分別產(chǎn)生柵距誤差δ1和δ2;γ1為拼接誤差,它與運(yùn)動系統(tǒng)的定位誤差相關(guān);δ1、δ2和γ1三個(gè)誤差參數(shù)的產(chǎn)生都影響了光刻能量模型相位,也稱為相位誤差;A1 和A2為兩次相鄰對接光刻的光強(qiáng)幅值,由于曝光能量的差異產(chǎn)生了誤差,兩次光強(qiáng)的差異也影響了相位誤差。α為水平平面是光刻能量閾值分界面,當(dāng)光強(qiáng)大于該界面時(shí)光柵條紋位白條紋,否者光柵條紋位黑條紋,如圖1中光柵條紋C所示;β平面與α夾角為θ,該閾值分界面受顯影或刻蝕因素影響,進(jìn)而產(chǎn)生光柵條紋柵距誤差B;受顯影或刻蝕時(shí)間、液體濃度等因素影響,α和β平面作為光刻能量閾值分界面將上下移動,根據(jù)圖1光刻能量閾值原理圖,最終將產(chǎn)生不同的光柵條紋柵距誤差,根據(jù)該原理整根光柵尺的光柵條紋柵距誤差之和,可以綜合分析焦平面能量幅值、相位參數(shù)及直線運(yùn)動定位誤差,開展進(jìn)一步的光柵精度預(yù)測及補(bǔ)償方法研究。整根光柵尺產(chǎn)生的誤差為:
多步重復(fù)光強(qiáng)間接補(bǔ)償
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]2m比長儀納米級精度線間距測量系統(tǒng)的研究[J]. 高宏堂,葉孝佑,鄒玲丁,孫雙花,沈雪萍,甘曉川,常海濤,王健. 計(jì)量學(xué)報(bào). 2012 (02)
[2]提高光柵測量精度和分辨率的技術(shù)研究與實(shí)現(xiàn)[J]. 劉清. 計(jì)量學(xué)報(bào). 2003(04)
碩士論文
[1]復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵大范圍高精度光刻對準(zhǔn)技術(shù)研究[D]. 司新春.中國科學(xué)院研究生院(光電技術(shù)研究所) 2016
本文編號:3248202
【文章來源】:組合機(jī)床與自動化加工技術(shù). 2020,(07)北大核心
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
SMD=0.51時(shí),兩種光強(qiáng)對比
如圖1所示為光刻能量閾值原理圖,圖中光柵尺焦平面光強(qiáng)采用矩形傅里葉基波來表征,p1和p2表示兩次相鄰對接光刻光強(qiáng)柵距,由于對準(zhǔn)誤差的存在兩次光刻分別產(chǎn)生柵距誤差δ1和δ2;γ1為拼接誤差,它與運(yùn)動系統(tǒng)的定位誤差相關(guān);δ1、δ2和γ1三個(gè)誤差參數(shù)的產(chǎn)生都影響了光刻能量模型相位,也稱為相位誤差;A1 和A2為兩次相鄰對接光刻的光強(qiáng)幅值,由于曝光能量的差異產(chǎn)生了誤差,兩次光強(qiáng)的差異也影響了相位誤差。α為水平平面是光刻能量閾值分界面,當(dāng)光強(qiáng)大于該界面時(shí)光柵條紋位白條紋,否者光柵條紋位黑條紋,如圖1中光柵條紋C所示;β平面與α夾角為θ,該閾值分界面受顯影或刻蝕因素影響,進(jìn)而產(chǎn)生光柵條紋柵距誤差B;受顯影或刻蝕時(shí)間、液體濃度等因素影響,α和β平面作為光刻能量閾值分界面將上下移動,根據(jù)圖1光刻能量閾值原理圖,最終將產(chǎn)生不同的光柵條紋柵距誤差,根據(jù)該原理整根光柵尺的光柵條紋柵距誤差之和,可以綜合分析焦平面能量幅值、相位參數(shù)及直線運(yùn)動定位誤差,開展進(jìn)一步的光柵精度預(yù)測及補(bǔ)償方法研究。整根光柵尺產(chǎn)生的誤差為:
多步重復(fù)光強(qiáng)間接補(bǔ)償
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]2m比長儀納米級精度線間距測量系統(tǒng)的研究[J]. 高宏堂,葉孝佑,鄒玲丁,孫雙花,沈雪萍,甘曉川,常海濤,王健. 計(jì)量學(xué)報(bào). 2012 (02)
[2]提高光柵測量精度和分辨率的技術(shù)研究與實(shí)現(xiàn)[J]. 劉清. 計(jì)量學(xué)報(bào). 2003(04)
碩士論文
[1]復(fù)合結(jié)構(gòu)光柵大范圍高精度光刻對準(zhǔn)技術(shù)研究[D]. 司新春.中國科學(xué)院研究生院(光電技術(shù)研究所) 2016
本文編號:3248202
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