發(fā)布時間：2021-03-07 13:17

　　光柵光譜儀的像質(zhì)會受到入射光偏振特性的影響,為解決這一問題,通常在系統(tǒng)中加入消偏器來減小儀器的偏振響應(yīng)。晶體材料的雙折射特性在光學(xué)原理上可產(chǎn)生消偏效果,常被用來加工成各種類型的消偏器�；诰仃嚬鈱W(xué)原理對H-V消偏器及雙巴比涅消偏器的Muller矩陣及殘余偏振度理論表達(dá)式做了分析,給出了殘余偏振度與工作波長、消偏器楔角、入射光瞳面積及入射光偏振角等參量之間的關(guān)系,在此基礎(chǔ)上研制了一款應(yīng)用于某光柵光譜儀的雙巴比涅消偏器,經(jīng)過計算,當(dāng)楔角0.6°,入射光瞳直徑20.6 mm時,雙巴比涅消偏器在0.4～0.9μm波長范圍內(nèi)殘余偏振度優(yōu)于3%,并且像分離滿足使用要求,具有很強(qiáng)的工程實踐性。 

【文章來源】：紅外與激光工程. 2020,49(07)北大核心

【文章頁數(shù)】：6 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號：3069167