基于超振蕩透鏡的非標記超分辨光學顯微技術
【學位單位】:重慶大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:TH74
【部分圖文】:
機光重構顯微成像技術、受激發(fā)射損耗顯微成像技術、結構光照明、基于超振蕩效應的共聚焦掃描顯微成像技術。 近場掃描顯微成像技術研究現(xiàn)狀928 年,Edward Synge 提出光透過一個刻有亞波長小孔的薄的、不透照明位于距該金屬板亞波長距離的樣品,通過掃描成像,得到一個破衍射極限的圖像[4]。上世紀 80 年代初由 Pohl 等人在實驗上得以實紀九十年代,Keilmann 等人提出了一種散射型的近場掃描顯微技術,20分析計算了探針與樣品之間相互作用,當入射波長為 10μm,探針,探針與樣品間距為 100nm 時,在實驗上得到了 λ/100 的成像分辨率年來,近場掃描顯微成像技術衍生出很多新的方法。2014 年,Maga 研究小組提出一種基于雙曲透鏡陣列的光學顯微技術,該小組將雙置在光學顯微鏡中,從而放大小于衍射極限的樣品細節(jié),如圖 1.1(成像分辨率提高到未放置雙曲透鏡陣列前的 10 倍以上,如圖 1.1(在入射波長為 633nm 時,成功分辨出孔直徑為 60nm,中心距離為 7[33]。
重慶大學碩士學位論文年,LIANG PAN 研究小組提出一種用于近場光學光刻和成像元耦合模型 PPL,如圖 1.2(a)所示。與傳統(tǒng)的激發(fā)局部狹縫或的方法不同,該模型采用等離子體激元與樣品在豎直方向上直,具有很高的耦合效率,可以用作反射式的近場成像。在波長下,經(jīng)該結構得到的半高全寬 FWHM 為 17nm 的聚焦光斑,如表面等離子體激元耦合模型用作近場成像,照明光源由結構后面反射,在結構后方進行探測,成功分辨了兩個直徑為 60nm 的兩個小孔,如圖 1.2(c、d)所示[34]。
圖 1.3 隨機光重構顯微成像技術。(a)隨機光重構顯微成像技術原理示意圖;(b)單個點擴展函數(shù)的熒光圖像;(c)對一個熒光開關分子 20 次成像定位實驗結果圖(標尺為 20nm);(d)對一個熒光開關分子 20 次成像定位實驗結果矯正后效果圖;(e)中心位置標準差的柱狀圖Fig.1.3 Stochastic optical reconstruction microscopy(STORM). (a) Schematic diagram of theprinciple of STORM; (b) The point spread function of single switch; (c) The center position of asingle switch for 20 image cycles; (d) The center position of a single switch for 20 image cycles aftercorrection. A histogram of the standard deviation of the central position.2008 年,zhuang 研究小組在之前的基礎上[36],提出了三維隨機光重構顯微成像技術,采用的方法是在成像路徑上加入一個柱面鏡,如圖 1.4a 所示,結果證明,隨著在 Z 方向距離的變化,熒光圖像的橢圓率以及橢圓的方向都在發(fā)生變化。其中在等效焦平面處,為圓形光斑,當樣品與物鏡的距離大于等效焦距時,橢圓長軸沿 X 軸方向,反之,當樣品與物鏡的距離小于等效焦距時,橢圓長軸沿 Y 軸方向,利用二維橢圓高斯擬合公式,可以得到峰值位置和沿 XY 方向的寬度 Wx、Wy。該小組以固定的用 Alexa 647 標記的鏈霉親和素的單個分子進行成像,其中
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