干涉儀是應(yīng)用干涉測(cè)量技術(shù)對(duì)光學(xué)材料、元件、系統(tǒng)的各種參量進(jìn)行高精度測(cè)量的光學(xué)測(cè)試儀器。針對(duì)單個(gè)干涉儀應(yīng)用范圍受限的問題,本論文研究了一種利用變焦系統(tǒng)能根據(jù)測(cè)量需求實(shí)現(xiàn)等厚干涉和等傾干涉之間切換的復(fù)合型干涉儀,為研制更高性能的干涉儀進(jìn)行一定的理論基礎(chǔ)研究及關(guān)鍵技術(shù)儲(chǔ)備,對(duì)于實(shí)際工程有著一定的指導(dǎo)意義。論文分析了干涉原理和常用干涉儀光路結(jié)構(gòu)及工作原理,確定了等厚等傾復(fù)合型干涉儀的設(shè)計(jì)方案,并針對(duì)設(shè)計(jì)中需要注意的事項(xiàng)進(jìn)行分析,完成了干涉儀光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì),對(duì)等厚及等傾干涉進(jìn)行了仿真,得到了干涉圖。而后完成了干涉儀整機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),設(shè)計(jì)了專用的固緊及調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。對(duì)于干涉儀內(nèi)雜散光的抑制,從光學(xué)元件、機(jī)械結(jié)構(gòu)以及表面特性這三個(gè)方面給出了具體方案,利用TracePro軟件對(duì)干涉儀系統(tǒng)三維建模,對(duì)等厚干涉和等傾干涉分別進(jìn)行光線追跡,結(jié)果表明干涉儀對(duì)系統(tǒng)內(nèi)部非期望雜散光抑制水平較高,干涉條紋具有良好的對(duì)比度。
【學(xué)位單位】：長(zhǎng)春理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位年份】：2019
【中圖分類】：TH744.3
【部分圖文】：

成干涉儀產(chǎn)生等傾干涉及等厚干涉之間的轉(zhuǎn)換，使干涉儀既能夠利用等厚干涉用以檢測(cè)平面和球面的面形及光學(xué)材料均勻性，也能利用等傾干涉用于較大平晶平面度和較大玻璃平板工作面平行度檢測(cè)。同時(shí)也為研制更高性能的干涉儀進(jìn)行一定的理論基礎(chǔ)研究及關(guān)鍵技術(shù)儲(chǔ)備，用以實(shí)現(xiàn)干涉儀產(chǎn)業(yè)化、商品化，縮短同國(guó)外的差距。1.2 國(guó)內(nèi)外研究進(jìn)展1.2.1 國(guó)外研究進(jìn)展自 1881 年由美國(guó)著名物理學(xué)家 AlbertAbraham Michelson 發(fā)明了可用以測(cè)定微小長(zhǎng)度、折射率以及光波波長(zhǎng)的邁克爾遜干涉儀后，干涉測(cè)量技術(shù)得到了迅猛發(fā)展，長(zhǎng)期處于精密工程的前沿領(lǐng)域。由于國(guó)外對(duì)干涉儀研制上起步較早，器件、工藝及加工等諸多方面更為成熟，所以在干涉測(cè)量領(lǐng)域一向有著領(lǐng)先地位[20]。

基于波長(zhǎng)調(diào)諧移相干涉原理，用以消除 PZT 移相導(dǎo)致的滯后性、非線性等諸多問題。光源選用中心波長(zhǎng)為685nm的半導(dǎo)體激光器，CCD相機(jī)分辨率為2048×2048，對(duì)平面樣品測(cè)量 PV 值重復(fù)性可達(dá) 5nm，RMS 值可達(dá) 0.56nm。圖 1.1（b）為 GPITMXP系列干涉儀。2010 年，美國(guó) ESDI 公司向市場(chǎng)推出了測(cè)量口徑為 102mm 的 IntellmmTMZ100 系列立式激光干涉儀[23]，如圖 1.2（a）所示，采用斐索結(jié)構(gòu)，基于 PZT 移相干涉原理，有 IntellmmTMZ100、IntellmmTMHR、IntellmmTMNIR 三種型號(hào)，檢測(cè)軟件選用 Zernike以及 Seidel 波面擬合法來進(jìn)行面型擬合。校正后儀器測(cè)量精度為 λ/100，RMS 值為0.1mm。隨后又推出了 IntelliumTMH2000 型同步移相式斐索型干涉儀，測(cè)量口徑為102mm，裝上附件能對(duì) 33mm，150mm，200mm 及 300mm 不同口徑進(jìn)行檢測(cè)，對(duì)振動(dòng)和其他環(huán)境干擾抑制效果明顯，如圖 1.2（b）所示。該系列干涉儀以專利技術(shù)HyperPhaseTM模塊取代普通相機(jī)，可同時(shí)生成三幅精密的相移干涉圖，經(jīng)處理后得到三維面形圖。校準(zhǔn)后測(cè)量精度為 λ/100，RMS 值優(yōu)于 0.35nm，重復(fù)測(cè)量精度為 λ/300。

長(zhǎng)春光機(jī)所的韓東松等人研制出了共光路斐索型動(dòng)態(tài)干涉儀[26]，采用偏振光干涉原理，選用波長(zhǎng)為 783nm 的短相干光源。利用兩個(gè)旋轉(zhuǎn)方向互為 45°夾角的偏振分光棱鏡，使四個(gè) CCD 相機(jī)能夠在同一時(shí)刻采集到四副相位分別為 0°、90°、180°及 270°的干涉圖，能夠?qū)Υ罂趶�、長(zhǎng)焦距光學(xué)元件實(shí)現(xiàn)快速、高精度測(cè)量。因存在棱鏡分光結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致由四個(gè) CCD 相機(jī)采集得到的條紋圖對(duì)比度不同，影響干涉儀測(cè)量精度。2013 年，南京理工大學(xué)郭仁慧等人成功研制出了一臺(tái)檢測(cè)口徑達(dá) 600mm 的波長(zhǎng)移相式激光干涉儀[27]，主機(jī)選用斐索結(jié)構(gòu)，光路簡(jiǎn)圖如圖 1.3 所示。光源選用中心波長(zhǎng)為 1055mm 的可調(diào)諧激光器，利用高精度電壓驅(qū)動(dòng)源，達(dá)成對(duì)波長(zhǎng)調(diào)諧的精密控制針對(duì)紅外光的不可見性，配備了可見光半導(dǎo)體激光器來輔助完成系統(tǒng)調(diào)試。采用基于一維時(shí)域傅立葉變換的移相量標(biāo)定方法，解決了波長(zhǎng)移相干涉在不同干涉腔長(zhǎng)下檢測(cè)時(shí)移向量的標(biāo)定問題。用以大口徑光學(xué)零件面形及光學(xué)材料均勻性檢測(cè)。但測(cè)量中易受環(huán)境振動(dòng)，標(biāo)定誤差等帶來的移向誤差影響，導(dǎo)致 6 個(gè)頻譜產(chǎn)生混疊，給最終波面計(jì)算帶來誤差。干涉儀測(cè)量精度 PV 值可達(dá) 64.4nm，RMS 值可達(dá) 9.5nm，測(cè)量不確定度優(yōu)于 λ/15。

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 羨一民;;He-Ne激光的波長(zhǎng)檢測(cè)及穩(wěn)頻技術(shù)——激光干涉儀技術(shù)綜述之二[J];工具技術(shù);2014年11期

2 劉滿林;楊旺;許偉才;;干涉儀成像畸變引起測(cè)量誤差的校正方法[J];光學(xué)精密工程;2011年10期

3 田偉;王平;王汝冬;隋永新;王立朋;楊懷江;;φ150mm菲索干涉儀球面標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)分析與設(shè)計(jì)[J];光學(xué)技術(shù);2011年03期

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本文編號(hào)：2811208