【摘要】：成像光譜儀能同時(shí)獲取目標(biāo)的一維光譜信息和二維空間信息(即數(shù)據(jù)立方體),在軍事偵察、地質(zhì)領(lǐng)域勘探及海洋污染監(jiān)控等遙感領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。對(duì)于成像光譜儀而言,雜散光是其重要的指標(biāo)參數(shù),會(huì)影響微弱目標(biāo)信息的探測(cè)。因此,成像光譜儀雜散光的分析、測(cè)量與校正具有重要意義。本文首先概述了國(guó)內(nèi)外成像光譜儀雜散光仿真分析、實(shí)驗(yàn)測(cè)量裝置以及雜散光校正方法�；陔s散輻射基礎(chǔ)理論并且結(jié)合所研究的成像光譜儀,分析了雜散光的來(lái)源,介紹了雜散光的相關(guān)抑制措施。然后,基于所研究Offner型成像光譜儀視場(chǎng)不對(duì)稱(chēng)的特點(diǎn),設(shè)計(jì)了遮光罩并給出了兩個(gè)視場(chǎng)方向上不同入射角度的消光比。根據(jù)光學(xué)設(shè)計(jì)要求,進(jìn)行系統(tǒng)的光機(jī)建模,給出了系統(tǒng)的散射路徑。最后,基于陷波法仿真了該成像光譜儀光譜維雜光系數(shù),得到陷波波長(zhǎng)633nm處的雜光系數(shù)為0.34%,滿(mǎn)足雜光系數(shù)≤1%的指標(biāo)要求。接著,比較了現(xiàn)有的成像光譜儀雜光系數(shù)測(cè)量方法。根據(jù)本文所研究Offner型成像光譜儀的特點(diǎn),設(shè)計(jì)了一套基于陷波法的成像光譜儀雜光系數(shù)測(cè)量裝置,實(shí)際測(cè)得雜光系數(shù)為0.84%;采用GUM法對(duì)測(cè)量結(jié)果的不確定度進(jìn)行評(píng)定,分析了雜散光測(cè)量裝置的誤差來(lái)源,給出了雜散光的最佳估計(jì)值和擴(kuò)展不確定度。最后,介紹了雜光校正矩陣的原理,利用衰減片擴(kuò)展了測(cè)量裝置的動(dòng)態(tài)范圍。實(shí)驗(yàn)測(cè)出了相關(guān)數(shù)據(jù)并且處理得到雜光校正矩陣,并利用雜光矩陣有效校正該成像光譜儀的雜散光。論文研究工作為成像光譜儀雜散光的研究及高分辨率成像光譜儀的研制提供了技術(shù)保障。
【圖文】：

散光的分析、測(cè)量與校正 第一章 緒論背景及意義 世紀(jì) 80 年代初美國(guó)噴氣推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室(JPL)提出成像光譜儀新概念發(fā)生著革命性的變化。成像光譜技術(shù)將成像技術(shù)和光譜技術(shù)結(jié)合光學(xué)、光譜學(xué)、精密機(jī)械、電子技術(shù)以及計(jì)算機(jī)技術(shù)融合于一體它的基本原理是：在儀器掃描成像的過(guò)程中，將成像輻射的波多個(gè)波段同時(shí)成像，從而獲得同一景物的多個(gè)光譜波段的圖像[2]像和光譜分光兩部分組成，前者完成對(duì)地物目標(biāo)的空間成像，后光譜波段分割。兩者有機(jī)地結(jié)合起來(lái)，組成三維“數(shù)據(jù)立方”，如決了傳統(tǒng)光學(xué)成像儀器有像無(wú)譜和傳統(tǒng)光譜儀器有譜無(wú)像的問(wèn)題

成像光譜儀雜散光儀雜散光的評(píng)價(jià)、測(cè)量和校正，對(duì)于進(jìn)一步研制高分用。究現(xiàn)狀很多院校、科研單位都對(duì)成像光譜儀雜散光的研究工光的仿真分析與理論計(jì)算、雜光測(cè)量以及雜光的校正。中國(guó)科學(xué)院空間科學(xué)與應(yīng)用研究中心的杜述松于 200涉成像光譜儀的分析。如圖 1.2 所示的是利用 TracePr過(guò)在系統(tǒng)中增加擋光光闌能有效抑制系統(tǒng)中的雜散光比[4]。該成像光譜儀通過(guò)光纖將望遠(yuǎn)系統(tǒng)和成像系統(tǒng)相散光；整機(jī)的機(jī)械結(jié)構(gòu)復(fù)雜，縫隙處容易漏光，而這
【學(xué)位授予單位】：蘇州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2018
【分類(lèi)號(hào)】：TH744.1

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：2675498