基于PIPS的~6LiF夾心中子譜儀的研究
【圖文】:
對于它們的測量顯得尤為重要(Steven L.Bellinger,2012)。947 年起,美國就建立起了多個臨界裝置,目的是為了進行核,LANL 已經(jīng)建立了十多個臨界裝置以及上百個臨界和次臨界數(shù)百次的臨界實驗,獲得了大量相關的臨界數(shù)據(jù),其中包括:、中子注量和反應率、反應性系數(shù)、中子能譜、臨界質(zhì)量等等各器研制的臨界安全檢驗以及核武器設計中計算程序和群常數(shù)的相關數(shù)據(jù)。前蘇聯(lián)于 20 世紀 40 年代起也開始著手建立臨界以千萬次的臨界實驗,并用于對二維計算程序和中子數(shù)o Bedogni,2010;M.Angelone,2014)。關于反應堆的物理計算中,,有幾個很重要的特定物理概念,接單介紹。是中子的微觀截面。核反應方程描述的是一個粒子和核相互作單從反應方程來看,沒有辦法了解與某體積內(nèi)物質(zhì)中發(fā)生這一數(shù)量。
利用中子能譜和截面數(shù)據(jù)庫,通過計算可以得到很多信息,例如裝置的中子場的平均反應截面以及中子注量等等,很多裝置都會對這些相關參數(shù)進行測量,它們都與中子能譜息息相關,所以說中子能譜的測量是十分必要的;中子能譜還可以用來檢驗核數(shù)據(jù)庫參數(shù)的準確性或是校正各種截面參數(shù);點截面、群參數(shù)等信息也能利用中子能譜從理論上計算獲得;另外還能通過核反應產(chǎn)生的中子能譜而得到核能級的相關數(shù)據(jù)。總而言之,中子能譜的測量一直以來都是中子場相關參數(shù)測量的難點和重點,特別是對于核武器和反應堆的設計和實驗而言,各類中子源的中子能譜測量都是必不可少的(楊成德,1995;吳健,2014)。例如電子元器件的輻照實驗通常需要在快中子臨界裝置中進行,如圖 1-2 所示為常用的半導體材料 Si 的位移損傷函數(shù)。電子元器件的損傷情況通常使用平均位移損傷函數(shù)來表示,不同的中子能譜對于電子元器件的損傷情況也是不同的。因此中子能譜的測量對于在模擬源上開展電子元器件輻照實驗而言是至關重要的(吳健,2014)。
【學位授予單位】:成都理工大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TH842
【參考文獻】
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2 吳健;基于4H-SiC的中子探測技術研究[D];中國工程物理研究院;2014年
本文編號:2648184
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