測(cè)量ZGP晶體折射率均勻性的Tm:LuAG單縱模激光干涉儀的研究
【圖文】:
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文P 晶體折射率均勻性,本文將設(shè)計(jì)并搭建一套單的干涉儀,并應(yīng)用到對(duì) ZGP 晶體折射率均勻計(jì)要求ZGP 晶體折射率均勻性的干涉儀包括干涉光源到晶體折射率均勻性。對(duì)于干涉光源,,由圖 1 2 μm,因此要求干涉光源的波長(zhǎng)最小應(yīng)在 2 影響最小,考慮采用 2 μm 單縱模激光作為干分為泰曼-格林干涉光路、馬赫-曾德爾干涉光路和法布里-珀羅干涉法光路,這些干涉光路都結(jié)構(gòu)搭建的難易程度,選擇采用馬赫-曾德爾像得到折射率均勻性的方法以及獲得2 μm單
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文前分布相減得到:( ) ( ) /o e o e o e p n n L + n n L ,移相干涉實(shí)現(xiàn)了相位的空間變化轉(zhuǎn)換成晶體折射率變化。 年,J.H.Brμning 和 D.R.Herriott 等人提出條紋掃描和移相干涉如圖 1-2 所示,利用壓電晶體實(shí)現(xiàn)移相,使用 32×32 二極管陣信息,通過這些數(shù)據(jù),微型計(jì)算機(jī)用傅里葉級(jí)數(shù)法同步檢測(cè) 1,并在 1 分鐘內(nèi)在存儲(chǔ)示波器上顯示等高線和透視圖中的波元件的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),通過不同的編程算法可以獲得鏡面的拋光勻性。
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TH744.3
【相似文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2627781
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