本文關(guān)鍵詞：保證成像質(zhì)量的分析方法研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

《中國科學院研究生院（光電技術(shù)研究所）》 2013年

保證成像質(zhì)量的分析方法研究

劉雨沁  

【摘要】：影響光電系統(tǒng)成像質(zhì)量的因素是復雜的，主要有場景特征、大氣環(huán)境、光電系統(tǒng)、顯示與觀察者經(jīng)驗等。其中，光學系統(tǒng)作為光電成像系統(tǒng)的重要組成部分，其設計的合理性，加工、裝配的精度在很大程度上決定著系統(tǒng)的成像質(zhì)量。不僅如此，系統(tǒng)制造和裝配后，面形誤差、材料誤差和位置誤差等誤差對成像的影響往往會累計疊加，對于高精度的光電成像系統(tǒng)，可能造成系統(tǒng)成像質(zhì)量達不到設計要求。為此，本文分別從公差設計和輔助裝調(diào)的角度進行保證成像質(zhì)量的分析方法研究。 本文首先考察各種光電成像性能評價指標的優(yōu)缺點，深入探討了光學傳遞函數(shù)的概念和系統(tǒng)傳遞函數(shù)的組成環(huán)節(jié)；其次研究了光機系統(tǒng)制造和裝配誤差的類型及概率分布；重點提出一種公差設計方法，該方法基于蒙特卡洛仿真，利用MATLAB/ZEMAX分析計算，修正后的RSS方法分配公差，并根據(jù)透鏡位置參數(shù)對成像質(zhì)量存在的互補性，合理設計位置公差的偏差態(tài)，保證光電成像質(zhì)量滿足設計要求；最后利用輔助裝調(diào)的思想，針對折射式光學系統(tǒng)的特點，利用靈敏度矩陣奇異值分解選取調(diào)整透鏡及微調(diào)方式，通過微調(diào)透鏡之間的相對位置去補償和改善成像質(zhì)量。仿真結(jié)果表明，，公差設計方法能夠在保證成像質(zhì)量的同時降低加工和裝調(diào)的難度，而當折射式光學系統(tǒng)存在制造和裝配誤差時，計算機輔助裝調(diào)能夠提高系統(tǒng)的成像質(zhì)量，對后續(xù)的工作具有較好的指導作用。

【關(guān)鍵詞】：
【學位授予單位】：中國科學院研究生院（光電技術(shù)研究所）
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2013
【分類號】：TH74;TG806
【目錄】：

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