本文關(guān)鍵詞：全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

《蘇州大學(xué)》 2015年

全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究

周陽  

【摘要】：深亞波長(zhǎng)光柵周期遠(yuǎn)小于工作波長(zhǎng),表現(xiàn)出理想偏振特性,利用深亞波長(zhǎng)光柵的偏振選擇特性,可以制作用于各個(gè)波段的的金屬光柵偏振器,它的優(yōu)點(diǎn)有:工作波長(zhǎng)可定制;可集成化和小型化;穩(wěn)定性好等,有著廣闊的應(yīng)用前景。深亞波長(zhǎng)光柵掩模主要是采用電子束曝光、X射線光刻等方法制作,這些制作方法的成本高且工藝復(fù)雜,影響了金屬光柵在各領(lǐng)域大規(guī)模應(yīng)用。相對(duì)于使用電子束曝光、X射線光刻等技術(shù)制作的光柵掩模,采用全息光刻技術(shù)制作光柵掩模具有面積大、制作成本低以及工藝簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。本文對(duì)深亞波長(zhǎng)光柵制作技術(shù)進(jìn)行了探索,將半導(dǎo)體廣泛使用的浸沒式光刻與全息光刻結(jié)合,采用全息-浸沒式光刻制作深亞波長(zhǎng)光柵掩模,并將制作的深亞波長(zhǎng)光柵掩模應(yīng)用于可見光波段金屬光柵的制作。主要內(nèi)容包括以下幾個(gè)方面:(1)介紹了深亞波長(zhǎng)光柵的意義以及深亞波長(zhǎng)光柵在光偏振領(lǐng)域應(yīng)用的進(jìn)展。(2)使用五種不同的光刻膠,對(duì)光刻膠特性做了深入的研究,分別制作了周期為575nm、350nm和240nm光刻膠光柵掩模,分析了曝光量、顯影時(shí)間、光柵周期以及不同的光刻膠對(duì)光柵槽形的影響。根據(jù)對(duì)光刻膠特性的研究,采用浸沒全息曝光的方法制作了180nm周期玻璃和金屬基底的深亞波長(zhǎng)光柵掩模。(3)介紹了在分析金屬光柵時(shí)經(jīng)常使用的時(shí)域有限差分法(FDTD)理論,并將FDTD理論應(yīng)用于金屬光柵偏振性能的研究,通過仿真給出了應(yīng)用于可見光波段的金屬光柵最佳的光柵結(jié)構(gòu)參數(shù),改進(jìn)了單層金屬光柵的結(jié)構(gòu),并分析了入射角及工藝誤差對(duì)金屬光柵偏振性能的影響。(4)采用離子束刻蝕和金屬沉積技術(shù),分別制作了單層和雙層的金屬光柵。同時(shí)對(duì)金屬光柵的透過率和消光比進(jìn)行了測(cè)量,并分析了制作工藝對(duì)金屬光柵偏振性能的影響。

【關(guān)鍵詞】：
【學(xué)位授予單位】：蘇州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號(hào)】：TH74
【目錄】：

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