本文選題：納米壓印 + 光柵　； 參考：《物理學(xué)報》2014年03期

【摘要】：本文制備了硅基和光刻膠兩種材料的納米光柵,利用光譜橢偏儀對該納米結(jié)構(gòu)的光柵進(jìn)行了測量,隨后利用建立的擬合模型對其測量數(shù)據(jù)進(jìn)行了擬合,結(jié)果證明了運(yùn)用該儀器進(jìn)行納米光柵結(jié)構(gòu)無損檢測的可行性,在入射角60?,方位角75?的測量條件下,納米結(jié)構(gòu)關(guān)鍵尺寸、側(cè)壁角等三維形貌參數(shù)的測量精度最大可達(dá)99.97%,該技術(shù)對于無損檢測有著一定的推動意義.
[Abstract]:In this paper, nano-gratings of silicon-based and photoresist materials were prepared, the grating of the nanostructure was measured by spectroscopic ellipsometry, and the measured data were fitted by the established fitting model. The results show that it is feasible to use this instrument for nondestructive testing of nanocrystalline grating structures at the incident angle of 60 and the azimuth angle of 75? The measurement accuracy of the three dimensional parameters such as the key size and the side wall angle of the nanostructure can reach 99.97. This technique has a certain significance for nondestructive testing.
【作者單位】： 華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院;武漢科技大學(xué)理學(xué)院;華中科技大學(xué)數(shù)學(xué)制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實驗室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:61076042,60607006) 國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(批準(zhǔn)號:2011YQ16000205) 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(批準(zhǔn)號:2011AA03A106)資助的課題~~
【分類號】：TH744

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號：1881069