本文關(guān)鍵詞： 測量 干涉測量 疊柵技術(shù) 微細(xì)加工 光刻　出處：《中國激光》2014年12期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：干涉測量是眾多科學(xué)與工程領(lǐng)域廣泛采用的精密計量手段。探索了一種方便可控的基于雙光柵衍射的疊柵干涉相敏測角方法,可直接用于接近式光刻過程中掩模襯底的傾斜矯正及面內(nèi)角調(diào)節(jié),便于微納米器件及微光電子系統(tǒng)集成等相關(guān)應(yīng)用。本方法旨在分別利用雙光柵多次衍射產(chǎn)生的對稱與相似級次,實現(xiàn)(m,-m)級疊柵干涉與(m,0)級疊柵干涉,產(chǎn)生相位與二者相對傾斜角、面內(nèi)角有關(guān)的場分布。分析推導(dǎo)了疊柵干涉測角的基本原理,然后介紹相應(yīng)的(m,-m)級與(m,0)級干涉測角方案設(shè)計。具體而言,二者均類似地根據(jù)條紋偏轉(zhuǎn)及頻率變化分別以離軸與同軸的方式監(jiān)測傾斜及面內(nèi)偏轉(zhuǎn)角度。設(shè)計相應(yīng)的組合光柵標(biāo)記進(jìn)行實驗驗證。實驗結(jié)果及分析表明,傾斜角與面內(nèi)角的調(diào)節(jié)精度分別可達(dá)10-3 rad及10-4 rad。
[Abstract]:Interferometric measurement is widely used in many fields of science and engineering. A convenient and controllable method based on double grating diffraction for phase sensitive angle measurement with stacked grating interferometry is explored. It can be used directly in the process of close lithography to correct the tilt of the mask substrate and adjust the angle inside the face. The purpose of this method is to use the symmetry and similarity order produced by the double grating multiple diffraction to realize the laminated grating interference and the laminated grating interference at the same time, which is convenient for the integration of micro and nano devices and micro optoelectronic systems. The field distribution related to the phase and the relative inclination angle and the angle inside the plane is produced. The basic principle of the interference angle measurement of the superimposed grating is analyzed and deduced, and the corresponding scheme design of the interference angle measurement of the two levels is introduced. The angle of tilt and in-plane deflection are monitored by off-axis and coaxial, respectively according to the fringe deflection and frequency change. The corresponding combined grating marks are designed for experimental verification. The experimental results and analysis show that, The adjusting accuracy of inclination angle and inplane angle can reach 10 ~ (-3) rad and 10 ~ (-4) rad. respectively.
【作者單位】： 許昌職業(yè)技術(shù)學(xué)院機(jī)電工程系;中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(61376110,61274108)
【分類號】：TH744.3

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本文編號：1547823