發(fā)布時(shí)間：2017-12-30 10:19

  本文關(guān)鍵詞：基于Mueller矩陣橢偏儀的納米壓印模板與光刻膠光柵結(jié)構(gòu)準(zhǔn)確測(cè)量　出處：《物理學(xué)報(bào)》2014年18期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 納米壓印 納米測(cè)量 Mueller矩陣橢偏儀 測(cè)量準(zhǔn)確度

【摘要】：在納米壓印工藝中,對(duì)模板和壓印結(jié)構(gòu)的幾何參數(shù)進(jìn)行快速、低成本、非破壞性地準(zhǔn)確測(cè)量具有非常重要的意義.與傳統(tǒng)光譜橢偏儀只能改變波長(zhǎng)和入射角2個(gè)測(cè)量條件并且在每一組測(cè)量條件下只能獲得振幅比和相位差2個(gè)測(cè)量參數(shù)相比,Mueller矩陣橢偏儀可以改變波長(zhǎng)、入射角和方位角3個(gè)測(cè)量條件,而且在每一組測(cè)量條件下都可以獲得一個(gè)4×4階Mueller矩陣共16個(gè)參數(shù),因此可以獲得更為豐富的測(cè)量信息.通過選擇合適的測(cè)量條件配置,充分利用Mueller矩陣中的測(cè)量信息,有望實(shí)現(xiàn)更為準(zhǔn)確的納米結(jié)構(gòu)測(cè)量.基于此,本文利用自主研制的Mueller矩陣橢偏儀對(duì)硅基光柵模板和納米壓印光刻膠光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行了測(cè)量.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,通過對(duì)Mueller矩陣橢偏儀進(jìn)行測(cè)量條件優(yōu)化配置,并且在光學(xué)特性建模時(shí)考慮測(cè)量過程中出現(xiàn)的退偏效應(yīng),可以實(shí)現(xiàn)壓印工藝中納米結(jié)構(gòu)線寬、線高、側(cè)壁角以及殘膠厚度等幾何參數(shù)更為準(zhǔn)確的測(cè)量,同時(shí)對(duì)于納米壓印光刻膠光柵結(jié)構(gòu)還可以直接得到光斑照射區(qū)域內(nèi)殘膠厚度的不均勻性參數(shù).
[Abstract]:......
【作者單位】： 華中科技大學(xué) 數(shù)字制造裝備與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;華中科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):91023032,51005091) 國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)(批準(zhǔn)號(hào):2011YQ160002) 教育部長(zhǎng)江學(xué)者和創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)發(fā)展計(jì)劃資助的課題~~
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 級(jí)尺度的測(cè)量,但其顯著缺點(diǎn)是速度慢、成本高、設(shè)1 31 備操作復(fù)雜、難以集成到制造工藝線上實(shí)現(xiàn)在線測(cè)^ 量.與之相反,光學(xué)測(cè)量方法如光學(xué)散射測(cè)量技術(shù)納米壓印是一種利用模板將圖形轉(zhuǎn)移到襯底 (optical scatter ometry),具有速度快、成本低、無接上的批量化納米制造工藝[1,2】

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前4條

1 劉世元;;計(jì)算測(cè)量問題與求解方法初探[J];機(jī)械工程學(xué)報(bào);2014年04期

2 彭靜;徐智謀;吳小峰;孫堂友;;納米壓印技術(shù)制備表面光子晶體LED的研究[J];物理學(xué)報(bào);2013年03期

3 張錚;徐智謀;孫堂友;何健;徐海峰;張學(xué)明;劉世元;;硅表面抗反射納米周期陣列結(jié)構(gòu)的納米壓印制備與性能研究[J];物理學(xué)報(bào);2013年16期

4 馬智超;徐智謀;彭靜;孫堂友;陳修國(guó);趙文寧;劉思思;武興會(huì);鄒超;劉世元;;基于光譜橢偏儀的納米光柵無損檢測(cè)[J];物理學(xué)報(bào);2014年03期

【共引文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前5條

1 李陽;徐維;王憶;;紫外納米壓印OLED襯底微結(jié)構(gòu)的制備技術(shù)[J];微納電子技術(shù);2013年07期

2 鐘遠(yuǎn)聰;;光子晶體缺陷中摻入增益介質(zhì)的小信號(hào)增益特性[J];人工晶體學(xué)報(bào);2014年06期

3 張錚;徐智謀;孫堂友;何健;徐海峰;張學(xué)明;劉世元;;硅表面抗反射納米周期陣列結(jié)構(gòu)的納米壓印制備與性能研究[J];物理學(xué)報(bào);2013年16期

4 馬智超;徐智謀;彭靜;孫堂友;陳修國(guó);趙文寧;劉思思;武興會(huì);鄒超;劉世元;;基于光譜橢偏儀的納米光柵無損檢測(cè)[J];物理學(xué)報(bào);2014年03期

5 張志剛;董鳳良;張青川;褚衛(wèi)國(guó);仇康;程騰;高杰;伍小平;;像素偏振片陣列制備及其在偏振圖像增強(qiáng)中的應(yīng)用[J];物理學(xué)報(bào);2014年18期

【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前7條

1 談春雷,易永祥,汪國(guó)平;一維金屬光柵的透射光學(xué)特性[J];物理學(xué)報(bào);2002年05期

2 任立勇,劉立人,劉德安,欒竹;雙摻雜LiNbO_3:Fe:Mn體全息光柵的時(shí)空衍射特性[J];物理學(xué)報(bào);2003年11期

3 穆全全;劉永軍;胡立發(fā);李大禹;曹召良;宣麗;;光譜型橢偏儀對(duì)各向異性液晶層的測(cè)量[J];物理學(xué)報(bào);2006年03期

4 劉光友;譚興文;姚金才;王振;熊祖洪;;電化學(xué)制備薄黑硅抗反射膜[J];物理學(xué)報(bào);2008年01期

5 劉世元;顧華勇;張傳維;沈宏偉;;基于修正等效介質(zhì)理論的微納深溝槽結(jié)構(gòu)反射率快速算法研究[J];物理學(xué)報(bào);2008年09期

6 彭靜;徐智謀;吳小峰;孫堂友;;納米壓印技術(shù)制備表面光子晶體LED的研究[J];物理學(xué)報(bào);2013年03期

7 張錚;徐智謀;孫堂友;何健;徐海峰;張學(xué)明;劉世元;;硅表面抗反射納米周期陣列結(jié)構(gòu)的納米壓印制備與性能研究[J];物理學(xué)報(bào);2013年16期

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 尹磊;劉紅忠;丁玉成;盧秉恒;;基于納米壓印技術(shù)的光伏器件微三維構(gòu)型研究[J];傳感技術(shù)學(xué)報(bào);2006年05期

2 李海華;李小麗;王慶康;;納米壓印技術(shù)中模板表面的氣相法抗粘連修飾[J];上海交通大學(xué)學(xué)報(bào);2007年10期

3 劉偉;王伊卿;甘代偉;;剛性模具納米熱壓印直接成型技術(shù)研究與應(yīng)用[J];模具工業(yè);2010年09期

4 王定理;劉文;周寧;徐智謀;;用于分布反饋光柵的納米壓印模板制作[J];光學(xué)精密工程;2011年11期

5 蔣維濤;丁玉成;盧秉恒;劉紅忠;;壓印光刻中模具空間位姿的識(shí)別及仿真[J];西安交通大學(xué)學(xué)報(bào);2007年01期

6 連芩;劉紅忠;丁玉成;尹磊;;TiO_2光陽極有序微結(jié)構(gòu)的納米壓印工藝[J];西安交通大學(xué)學(xué)報(bào);2009年11期

7 段家現(xiàn);;納米壓印技術(shù)的研究[J];裝備制造技術(shù);2010年07期

8 ;納米與粉體材料[J];新材料產(chǎn)業(yè);2008年04期

9 張鴻海;謝丹;劉勝;甘志銀;;基于荷花效應(yīng)的雙微觀超疏水表面制作技術(shù)研究[J];中國(guó)機(jī)械工程;2009年02期

10 丁萬勇;戴樹璽;王洋;王廣君;張興堂;杜祖亮;;光盤表面結(jié)構(gòu)的軟模板復(fù)制及圖案化氧化鋅薄膜的納米壓印制備[J];科學(xué)通報(bào);2011年14期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 孫天華;胡彬彬;杜祖亮;;利用納米壓印方法制備納米電極[A];中國(guó)化學(xué)會(huì)第28屆學(xué)術(shù)年會(huì)第4分會(huì)場(chǎng)摘要集[C];2012年

2 程照溪;陳昕;陳相仲;沈群東;;鐵電高分子拉伸和納米壓印中的結(jié)構(gòu)演變和性能研究[A];中國(guó)化學(xué)會(huì)第28屆學(xué)術(shù)年會(huì)第7分會(huì)場(chǎng)摘要集[C];2012年

3 林宏;萬霞;姜學(xué)松;王慶康;印杰;;基于硫醇點(diǎn)擊化學(xué)的新型紫外納米壓印膠[A];2011年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)論文摘要集[C];2011年

4 石剛;呂男;;納米壓印技術(shù)在導(dǎo)電聚合物中的應(yīng)用[A];中國(guó)化學(xué)會(huì)第28屆學(xué)術(shù)年會(huì)第4分會(huì)場(chǎng)摘要集[C];2012年

5 左強(qiáng);王磊;王智浩;孫堂友;周寧;趙彥立;徐志謀;劉文;;納米壓印技術(shù)制作DFB半導(dǎo)體激光器[A];第十三屆全國(guó)紅外加熱暨紅外醫(yī)學(xué)發(fā)展研討會(huì)論文及論文摘要集[C];2011年

6 石剛;呂男;;基于納米壓印技術(shù)構(gòu)筑導(dǎo)電聚合物納米線[A];中國(guó)化學(xué)會(huì)第28屆學(xué)術(shù)年會(huì)第15分會(huì)場(chǎng)摘要集[C];2012年

7 洪曉東;王鈾;王雪峰;;嵌段共聚物表面AFM針尖鍛造納米圖案熱擦除動(dòng)力學(xué)研究[A];2009年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)論文摘要集（上冊(cè)）[C];2009年

8 董曉文;司衛(wèi)華;顧文琪;;納米壓印光刻技術(shù)及其設(shè)備研制[A];中國(guó)微米、納米技術(shù)第七屆學(xué)術(shù)會(huì)年會(huì)論文集（一）[C];2005年

9 王旭迪;付紹軍;;利用UVN-30光刻膠制作高線密度納米壓印模板[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2006年學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2006年

10 王普天;王慧慧;魏杰;;MWNT/Ag/UV樹脂納米壓印復(fù)合材料的研究[A];2009年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)論文摘要集（上冊(cè)）[C];2009年

相關(guān)重要報(bào)紙文章 前6條

1 尹暉;市領(lǐng)導(dǎo)會(huì)見美國(guó)國(guó)家工程院院士[N];無錫日?qǐng)?bào);2009年

2 陳超;日開發(fā)低成本納米壓印刻蝕裝置[N];科技日?qǐng)?bào);2002年

3 記者王俊鳴;64位存儲(chǔ)器在美問世[N];科技日?qǐng)?bào);2002年

4 本報(bào)記者 張煜;打造“精密”平板秀[N];中國(guó)電子報(bào);2010年

5 記者 劉霞;增強(qiáng)拉曼散射傳感器靈敏度提高10億倍[N];科技日?qǐng)?bào);2011年

6 同濟(jì)大學(xué)教授 沈海軍;納米藝術(shù)如何施展身手?[N];大眾科技報(bào);2011年

相關(guān)博士學(xué)位論文 前10條

1 李小麗;納米壓印技術(shù)制作光子晶體結(jié)構(gòu)及其應(yīng)用研究[D];上海交通大學(xué);2009年

2 董會(huì)杰;納米壓印用聚合物體系的創(chuàng)制與性能的研究[D];華東理工大學(xué);2011年

3 袁長(zhǎng)勝;多功能納米壓印機(jī)的研制及其在自支撐光柵制備中的應(yīng)用[D];南京大學(xué);2011年

4 高立國(guó);納米壓印在制備雙色發(fā)光圖案及負(fù)折射系數(shù)材料中的應(yīng)用[D];吉林大學(xué);2011年

5 王定理;納米壓印技術(shù)及其在金屬光柵偏振分束器和半導(dǎo)體激光器上的應(yīng)用[D];武漢大學(xué);2010年

6 洪曉東;嵌段共聚物薄膜二維自組裝及在納米壓印中的應(yīng)用[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

7 林宏;新型紫外納米牙印光刻膠的研究[D];上海交通大學(xué);2012年

8 黃春玉;基于納米壓印技術(shù)構(gòu)筑導(dǎo)電高分子圖案[D];吉林大學(xué);2010年

9 范細(xì)秋;納米壓印及MEMS仿生功能表面制備的研究[D];華中科技大學(xué);2006年

10 孟凡濤;納米光刻技術(shù)及其在三端結(jié)器件和納米光柵偏振器中的應(yīng)用[D];大連理工大學(xué);2011年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條

1 張繼宗;陽離子型納米壓印膠與復(fù)合納米壓印模板的研究[D];南京大學(xué);2012年

2 丁萬勇;利用納米壓印技術(shù)構(gòu)筑圖案化微納結(jié)構(gòu)[D];河南大學(xué);2010年

3 林亮;基于納米壓印技術(shù)制備人工微結(jié)構(gòu)光電功能材料工藝研究[D];南京大學(xué);2013年

4 王海祥;納米壓印鎳模板的復(fù)制工藝研究[D];大連理工大學(xué);2013年

5 李天昊;基于氣體壓縮式施壓的納米壓印研究[D];鄭州大學(xué);2013年

6 張滿;基于巰基—烯材料的納米壓印聚合物模板的制備技術(shù)研究[D];中國(guó)科學(xué)院研究生院（光電技術(shù)研究所）;2013年

7 何雪縈;大行程納米壓印光刻機(jī)的電控系統(tǒng)設(shè)計(jì)[D];上海交通大學(xué);2010年

8 劉瑞宏;基于納米壓印技術(shù)的亞波長(zhǎng)抗反射結(jié)構(gòu)的工藝研究[D];上海交通大學(xué);2012年

9 羅哲;曲面微光學(xué)結(jié)構(gòu)納米壓印制備技術(shù)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2013年

10 吳成年;面向曲面基底微光學(xué)元件加工的納米壓印設(shè)備的研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2012年

，

本文編號(hào)：1354486