本文關(guān)鍵詞：90nm DUV光刻物鏡重力變形及其對波像差影響分析　出處：《光電工程》2015年03期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：本文基于數(shù)值孔徑為0.75,滿足90 nm技術(shù)節(jié)點的DUV光刻物鏡系統(tǒng),采用在透鏡邊緣施加支撐力的方式進(jìn)行重力變形控制。采用有限元法研究透鏡表面非球面變形與補償力的關(guān)系,分析補償后透鏡重力變形對系統(tǒng)波像差的影響并與補償前系統(tǒng)進(jìn)行對比。結(jié)果表明:加邊緣補償力后,透鏡非球面變形均方根最大值由50.877 nm減小至26.675 nm,但補償后系統(tǒng)波像差均方根最大值由0.041λ增大到0.055λ。由此可以得出結(jié)論:該補償方式能夠有效補償透鏡表面非球面變形,但補償后系統(tǒng)波像差反而增大,所以要降低系統(tǒng)的波像差,不僅需要減小透鏡變形,同時還需考慮各透鏡變形之間的相互補償作用。
【作者單位】： 北京理工大學(xué)光電學(xué)院光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點實驗室;
【基金】：國家科技重大專項(2009ZX02201-003) 國家自然基金重點項目(60938003) 光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點實驗室開放課題(2013OEIOF05)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 0引言隨著現(xiàn)代集成技術(shù)的飛速發(fā)展,對光刻系統(tǒng)分辨力的要求也在不斷提高。光刻投影物鏡是光刻系統(tǒng)的核心部分,其光學(xué)性能對光刻系統(tǒng)分辨力起著決定性作用。目前,90 nm技術(shù)節(jié)點深紫外(DUV)光刻投影物鏡是光刻系統(tǒng)中的主流物鏡之一,一般由20~30片鏡片組成,要求集成后系統(tǒng)波像差

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級參考文獻(xiàn)】

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本文編號：1323952