本文關(guān)鍵詞：基于X光移動(dòng)光刻技術(shù)的PMMA微透鏡陣列制備　出處：《紅外與激光工程》2016年06期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：微透鏡陣列的制備已經(jīng)成為微光學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。利用兩次X光移動(dòng)光刻技術(shù),以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為正光刻膠,在PMMA基板上制造了微透鏡陣列,并對(duì)其制作原理進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明。設(shè)計(jì)了制備微透鏡陣列用的掩膜圖形,并通過(guò)掩膜圖形模擬仿真,預(yù)測(cè)了微透鏡在兩次移動(dòng)曝光顯影后的形狀。第一次X光移動(dòng)光刻后,理論上會(huì)得到半圓柱狀三維結(jié)構(gòu);第一次光刻后將掩膜板旋轉(zhuǎn)90°,進(jìn)行第二次移動(dòng)曝光光刻,最終在PMMA基板上制備了面積為10 mm×10 mm的30×30個(gè)微透鏡陣列,陣列中每個(gè)微透鏡的直徑約248μm、厚度約82μm。同時(shí)也研究了X光曝光量與PMMA刻蝕深度之間的關(guān)系。微透鏡陣列形貌測(cè)試表明此種制備微透鏡陣列的新方法是可行的。
【作者單位】： 上海應(yīng)用技術(shù)大學(xué)理學(xué)院;日本立命館大學(xué)微系統(tǒng)系;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51035005) 上海應(yīng)用技術(shù)學(xué)院光電精密檢測(cè)平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目(10210Q140005);上海應(yīng)用技術(shù)學(xué)院引進(jìn)人才啟動(dòng)基金(YJ2014-03)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 0引言光學(xué)成像透鏡,作為光學(xué)系統(tǒng)的重要元件之一,在天文、軍事、交通、醫(yī)學(xué)、藝術(shù)等領(lǐng)域扮演著重要角色。隨著科技的進(jìn)步和發(fā)展,光學(xué)系統(tǒng)體積逐漸向小型化和集成化方向發(fā)展,體積較大、結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的傳統(tǒng)透鏡已不滿足要求,而縮小透鏡尺寸而制備出微透鏡和微透鏡陣列順應(yīng)了光學(xué)系

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