發(fā)布時間：2017-12-16 06:28

  本文關鍵詞：氣囊拋光過程的運動精度控制

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【摘要】：針對用于球面、非球面光學元件超精密光學加工的氣囊拋光技術,提出了一套控制拋光過程中氣囊運動精度的方法。該方法通過控制加工單元的溫度,保證拋光過程中設備運動精度達到50μm;使用坐標傳遞法,使檢測數(shù)據(jù)二維方向對準不確定度達到0.30~0.70mm。另外,基于磨頭去除量估計與反饋修正法,提高精拋過程面形誤差收斂效率。最后,通過磨頭探測校準法,將磨頭與加工工件法向位置精度提高至10μm。實際拋光實驗顯示:使用運動精度控制法在280mm口徑的平面精密拋光中獲得的面形加工精度為0.8nm(RMS),在160mm口徑的凹球面精密拋光中獲得的面形加工結果為1.1nm(RMS),實現(xiàn)了超高精度面形修正的目的,為超高精度球面、非球面光學元件加工提供了一套行之有效的方法。該方法同樣適用于其他接觸式小磨頭數(shù)控拋光方法。
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所應用光學國家重點實驗室超精密光學工程研究中心;
【基金】：國家科技重大專項資助項目(No.2009ZX02205)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 1引言隨著科技的發(fā)展,超精密光學元件在光學、電子、航空航天等諸多領域中的應用日益廣泛,并且對光學元件的全頻段面形精度要求越來越高,尤其在深紫外與極紫外高精度光學成像系統(tǒng)中,單個光學鏡片的面形精度已要求達到納米、亞納米量級。同時,由于非球面光學元件具有可以減少系

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本文編號：1295050